| 主权项 |
1.一种真空处理装置,特别系为一种用以连续涂装 板状基材之涂装线而该基材沿着该线连续移动,较 佳地系为一种玻璃涂装线,至少具有复数个连续配 置之真空室(1)或隔间(2至8,17),且较佳地系至少藉 由复数个泵浦(21)抽运,至少一个真空室或隔间之 顶部配置一与至少一个泵浦连接之可拆式盖体(20 、30),其特征在于:该盖体系形成一盖体空间(28)并 具有至少一连接装置用于一扩散泵浦,较佳地系为 一油扩散泵浦。 2.如申请专利范围第1项所述之真空处理装置,其中 具有该盖体空间之该盖体系覆盖于该真空室或该 隔间之上,较佳地系突出于至少该真空室之一侧或 两侧,且交叉于该基材之运输方向。 3.如申请专利范围第1或2项所述之真空处理装置, 其中至少一用于一扩散泵浦,较佳地系为一油扩散 泵浦之连接装置(27)系设置于该盖体之下侧之覆盖 区域内,该连接装置较佳地于真空密合状态下系可 闭合。 4.如申请专利范围第1或2项所述之真空处理装置, 其中该盖体内之该盖体空间(28)系为一立方体或箱 状盖体结构,并于该真空室之一部分区域内朝上开 放。 5.如申请专利范围第1项所述之真空处理装置,其中 至少一用于一涡轮式分子泵之连接装置系设置于 该盖体之上侧,该连接装置较佳地于真空密合状态 下系可闭合,且/或一用于治具之附加装置系设置 于该盖体之下侧。 6.如申请专利范围第1项所述之真空处理装置,其中 不同之盖体可拆卸而与该真空室相连接,而使真空 室闭合为真空密合状态,该盖体包含:覆盖该盖体 型成之该盖体空间,与(30)或不与(20)分隔或导引板 、可拆式盖体(15)、及/或具有涡轮式分子泵之盖 体。 7.如申请专利范围第1或2项所述之真空处理装置, 其中该盖体具有一节流阀(22),较佳地相对于用于 该泵浦(21)之该连接装置(27),且较佳地形成一密封 盖,可以自该连接装置取下,该密封盖系可相对于 该连接装置之孔径以线性驱动方式移动。 8.如申请专利范围第1或2项所述之真空处理装置, 其中该盖体(30)具有至少一隔间(31)将该盖体空间 区分为独立之空间以分别抽运。 9.如申请专利范围第8项所述之真空处理装置,其中 该隔间(31)系对角分布于该盖体空间内,使得不同 区域可以藉由该泵浦,特别系扩散泵浦,为于该真 空室之两侧,抽运。 10.如申请专利范围第9项所述之真空处理装置,其 中该隔间墙(32)系平行于该盖体内之该隔间,且活 动连接至该隔间,较佳地系大体上气密或真空密合 ,以形成一气体分离区段于该真空室内。 11.一种真空处理装置之真空室之盖体,特别如申请 专利范围第1至10项所述,具有一立方体或箱状盖体 结构以形成一盖体空间(28),与至少一,较佳为二个 连接装置(27)用于扩散泵浦(21),较佳地为油扩散泵 浦,较佳地位于较窄区域之底面,该盖体较佳地具 有如申请专利范围第5与7至9项之特征。 图式简单说明: 第1图系显示一玻璃涂布线,于基材运输方向上之 部分剖面侧视图; 第2图系显示第1图之玻璃涂布线上横切于该运输 方向之剖面图; 第3图系显示另一实施例之玻璃涂布线及/或一处 理室区域,于基材运输方向上之部分剖面侧视图, 其中部分元件因清晰缘故而省略; 第4图系显示未显示于第3图中之部分元件; 第5图系显示连接对角配置之扩散泵浦之盖体之上 视图;及 第6图系显示具有隔间之玻璃涂布线之上视图,扩 散泵浦系对角连接。 |
