| 主权项 |
1.一种记录及/或再生装置,该装置包括: 一信号处理单元,该信号处理单元执行一第一位址 及一第二位址的信号处理,以便区别一个位于一资 讯记录媒体的一可记录资料区之第一区域与一个 位于该可记录资料区之第二区域,该第二区域所使 用的一记录及/或再生单位方块的大小与该第一区 域所使用的一记录及/或再生单位方块的大小不同 ,该信号处理单元并记录资料于该资讯记录媒体或 由该资讯记录媒体读取资料;以及 一控制单元,该控制单元利用该资讯记录媒体的该 第一区域的该第一位址及该第二区域的该第二位 址来控制用以记录及/或再生资料之该信号处理单 元。 2.如申请专利范围第1项所述之记录及/或再生装置 ,其中该信号处理单元包括: 一晃动信号处理单元,该晃动信号处理单元具有一 个藉由一第一晃动处理方法处理该第一位址之第 一晃动处理单元及一个藉由一第二晃动处理方法 处理该第二位址之第二晃动处理单元, 其中该控制单元控制该晃动信号处理单元使得在 该第一区域中记录或再生资料时将藉由该第一晃 动处理单元处理该资料的该第一位址,并且使得在 该第二区域中记录或再生资料时将藉由该第二晃 动处理单元处理该资料的该第二位址。 3.如申请专利范围第2项所述之记录及/或再生装置 ,其中该第一晃动处理方法所使用的一晃动调变方 法与该第二晃动处理方法所使用的一晃动调变方 法不同。 4.如申请专利范围第3项所述之记录及/或再生装置 ,其中该第一晃动处理方法使用一种二进位移相键 控,而该第二晃动处理方法使用一种移频键控。 5.如申请专利范围第2项所述之记录及/或再生装置 ,其中该第一晃动处理方法所使用的一基本频率与 该第二晃动处理方法所使用的一基本频率不同。 6.如申请专利范围第2项所述之记录及/或再生装置 ,其中该第一晃动处理方法所使用的一通道时脉晃 动周期与该第二晃动处理方法所使用的一通道时 脉晃动周期不同。 7.如申请专利范围第1项所述之记录及/或再生装置 ,其中该信号处理单元包括: 一第一位址侦测单元,该第一位址侦测单元侦测该 第一位址;以及 一第二位址侦测单元,该第二位址侦测单元侦测该 第二位址, 其中该控制单元的控制使得在该第一区域中记录 或再生资料时将藉由该第一位址侦测单元侦测该 资料的该第一位址,并且使得在该第二区域中记录 或再生资料时将藉由该第二位址侦测单元侦测该 资料的该第二位址。 8.如申请专利范围第7项所述之记录及/或再生装置 ,其中该第二位址包括一个不包含于该第一位址之 识别码。 9.如申请专利范围第8项所述之记录及/或再生装置 ,其中每一该第一位址及第二位址包括一同步信号 及位址资料,并且该第二位址所包括之该识别码藉 由下列各步骤当中至少一步骤来产生:改变该第一 位址的该同步信号的重复次数;改变该第一位址的 该同步信号的顺序;改变该第一位址的该同步信号 的组合;使用一预定样式;以及使用一预定组合。 10.如申请专利范围第8项所述之记录及/或再生装 置,其中每一该第一位址及第二位址包括一同步信 号及位址资料,而该第二位址所包括之该识别码不 包含于该第一位址且插入于该第二位址的该位址 资料。 11.如申请专利范围第7项所述之记录及/或再生装 置,其中形成该第二位址之复数个位元的一数目与 形成该第一位址之复数个位元的一数目不同。 12.如申请专利范围第1项所述之记录及/或再生装 置,其中该信号处理单元包括: 一晃动信号处理单元,该晃动信号处理单元具有一 个藉由一第一晃动处理方法处理该第一位址之第 一晃动处理单元及一个藉由一第二晃动处理方法 处理该第二位址之第二晃动处理单元;以及 一位址侦测单元,该位址侦测单元具有一个侦测该 第一晃动处理单元所处理的该第一位址之第一位 址侦测单元及一个侦测该第二晃动处理单元所处 理的该第二位址之第二位址侦测单元, 其中该控制单元的控制使得在该第一区域中记录 或再生资料时将藉由该第一晃动处理单元处理该 资料的该第一位址并藉由该第一位址侦测单元侦 测该资料的该第一位址,且使得在该第二区域中记 录或再生资料时将藉由该第二晃动处理单元处理 该资料的该第二位址并藉由该第二位址侦测单元 侦测该资料的该第二位址。 13.一种碟片制造装置,该装置包括: 一控制单元,该控制单元的控制使得在一资讯记录 媒体上产生一第一位址及一第二位址,以便区别一 个位于该资讯记录媒体的一可记录资料区之第一 区域与一个位于该可记录资料区之第二区域,该第 二区域所使用的一记录及/或再生单位方块的大小 与该第一区域所使用的一记录及/或再生单位方块 的大小不同;以及 一切割单元,该切割单元根据该控制单元的控制在 该资讯记录媒体上产生该第一位址及该第二位址 。 14.如申请专利范围第13项所述之碟片制造装置,其 中该切割单元包括: 一调变单元,该调变单元具有一个藉由一第一晃动 处理方法处理该第一位址之第一晃动处理单元及 一个藉由一第二晃动处理方法处理该第二位址之 第二晃动处理单元, 其中该控制单元的控制使得在该第一区域中产生 位址资讯时将藉由该第一晃动处理单元处理该第 一位址,并且使得在该第二区域中产生位址资讯时 将藉由该第二晃动处理单元处理该第二位址。 15.如申请专利范围第14项所述之碟片制造装置,其 中该第一晃动处理方法所使用的一晃动调变方法 与该第二晃动处理方法所使用的一晃动调变方法 不同。 16.如申请专利范围第15项所述之碟片制造装置,其 中该第一晃动处理方法使用一种二进位移相键控, 而该第二晃动处理方法使用一种移频键控。 17.如申请专利范围第14项所述之碟片制造装置,其 中该第一晃动处理方法所使用的一基本频率与该 第二晃动处理方法所使用的一基本频率不同。 18.如申请专利范围第14项所述之碟片制造装置,其 中该第一晃动处理方法所使用的一通道时脉晃动 周期与该第二晃动处理方法所使用的一通道时脉 晃动周期不同。 19.如申请专利范围第13项所述之碟片制造装置,其 中该切割单元包括: 一信号处理单元,该信号处理单元具有一个产生该 第一位址之第一位址产生单元及一个产生该第二 位址之第二位址产生单元, 其中该控制单元的控制使得在该第一区域中产生 位址资讯时将藉由该第一位址产生单元产生该第 一位址,且使得在该第二区域中产生位址资讯时将 藉由该第二位址产生单元产生该第二位址。 20.如申请专利范围第19项所述之碟片制造装置,其 中该第二位址包括一个不包含于该第一位址之识 别码。 21.如申请专利范围第19项所述之碟片制造装置,其 中每一该第一位址及第二位址由一同步信号及位 址资料所构成,并且该第二位址所包括之该识别码 藉由下列各步骤当中至少一步骤来产生:改变该第 一位址的该同步信号的重复次数;改变该第一位址 的该同步信号的顺序;改变该第一位址的该同步信 号的组合;使用一预定样式;以及使用一预定组合 。 22.如申请专利范围第19项所述之碟片制造装置,其 中每一该第一位址及第二位址包括一同步信号及 位址资料,并且该第二位址所包括之该识别码藉由 将一个该第一位址不使用的识别码插入该第二位 址的该位址资料来表示。 23.如申请专利范围第19项所述之碟片制造装置,其 中形成该第二位址之复数个位元的一数目与形成 该第一位址之复数个位元的一数目不同。 24.如申请专利范围第18项所述之碟片制造装置,其 中该切割单元包括: 一调变单元,该调变单元具有一个藉由一第一晃动 处理方法处理该第一位址之第一晃动处理单元及 一个藉由一第二晃动处理方法处理该第二位址之 第二晃动处理单元;以及 一信号处理单元,该信号处理单元具有一个产生第 一晃动处理资讯以适合于一第一位址格式之第一 位址产生单元及一个产生第二晃动处理资讯以适 合于一第二位址格式之第二位址产生单元, 其中该控制单元的控制使得在该第一区域中产生 位址资讯时将藉由该第一晃动处理单元处理该第 一位址并藉由该第一位址产生单元产生该第一位 址,且该控制单元的控制使得在该第二区域中产生 位址资讯时将藉由该第二晃动处理单元处理该第 二位址并藉由该第二位址产生单元产生该第二位 址。 25.一种记录及/或再生方法,该方法包括: 记录资料于一资讯记录媒体或由该资讯记录媒体 再生资料;以及 执行一第一位址及一第二位址的信号处理,以便区 别一个位于该资讯记录媒体的一可记录资料区之 第一区域与一个位于该可记录资料区之第二区域, 该第二区域所使用的一记录及/或再生单位方块的 大小与该第一区域所使用的一记录及/或再生单位 方块的大小不同。 26.如申请专利范围第25项所述之记录及/或再生方 法,该方法更包括: 执行控制使得在该第一区域中记录或再生资料时 将藉由一第一晃动处理方法处理该资料的该第一 位址;以及 执行控制使得在该第二区域中记录或再生资料时 将藉由一第二晃动处理方法处理该资料的该第二 位址。 27.如申请专利范围第26项所述之记录及/或再生方 法,其中该第一晃动处理方法所使用的一晃动调变 方法与该第二晃动处理方法所使用的一晃动调变 方法不同。 28.如申请专利范围第27项所述之记录及/或再生方 法,其中该第一晃动处理方法使用一种二进位移相 键控,而该第二晃动处理方法使用一种移频键控。 29.如申请专利范围第26项所述之记录及/或再生方 法,其中该第一晃动处理方法所使用的一基本频率 与该第二晃动处理方法所使用的一基本频率不同 。 30.如申请专利范围第26项所述之记录及/或再生方 法,其中该第一晃动处理方法所使用的一通道时脉 晃动周期与该第二晃动处理方法所使用的一通道 时脉晃动周期不同。 31.如申请专利范围第25项所述之记录及/或再生方 法,该方法更包括: 执行控制使得在该第一区域中记录或再生资料时 将侦测该资料的该第一位址;以及 执行控制使得在该第二区域中记录或再生资料时 将侦测该资料的该第二位址。 32.如申请专利范围第31项所述之记录及/或再生方 法,其中该第二位址包括一个不包含于该第一位址 之识别码。 33.如申请专利范围第32项所述之记录及/或再生方 法,其中每一该第一位址及第二位址包括一同步信 号及位址资料,并且该第二位址所包括之该识别码 藉由下列各步骤当中至少一步骤来产生:改变该第 一位址的该同步信号的重复次数;改变该第一位址 的该同步信号的顺序;改变该第一位址的该同步信 号的组合;使用一预定样式;以及使用一预定组合 。 34.如申请专利范围第32项所述之记录及/或再生方 法,其中每一该第一位址及第二位址由一同步信号 及位址资料所构成,并且该第二位址所包括之该识 别码藉由将一个该第一位址不使用的识别码插入 该第二位址的该位址资料来表示。 35.如申请专利范围第32项所述之记录及/或再生方 法,其中形成该第二位址之复数个位元的一数目与 形成该第一位址之复数个位元的一数目不同。 36.如申请专利范围第25项所述之记录及/或再生方 法,该方法更包括: 执行控制使得在该第一区域中记录或再生资料时 将藉由一第一晃动处理方法处理该资料的该第一 位址并藉由一第一位址侦测单元侦测该资料的该 第一位址;以及 执行控制使得在该第二区域中记录或再生资料时 将藉由一第二晃动处理方法处理该资料的该第二 位址并藉由一第二位址侦测单元侦测该资料的该 第二位址。 37.一种碟片制造方法,该方法包括: 在一资讯记录媒体上产生一第一位址及一第二位 址,以便区别一个位于该资讯记录媒体的一可记录 资料区之第一区域与一个位于该可记录资料区之 第二区域,该第二区域所使用的一记录及/或再生 单位方块的大小与该第一区域所使用的一记录及/ 或再生单位方块的大小不同。 38.如申请专利范围第37项所述之碟片制造方法,该 方法更包括: 执行控制使得在该第一区域中产生位址资讯时将 藉由一第一晃动处理方法处理该第一位址;以及 执行控制使得在该第二区域中产生位址资讯时将 藉由一第二晃动处理方法处理该第二位址。 39.如申请专利范围第38项所述之碟片制造方法,其 中该第一晃动处理方法所使用的一晃动调变方法 与该第二晃动处理方法所使用的一晃动调变方法 不同。 40.如申请专利范围第39项所述之碟片制造方法,其 中该第一晃动处理方法使用一种二进位移相键控, 而该第二晃动处理方法使用一种移频键控。 41.如申请专利范围第38项所述之碟片制造方法,其 中该第一晃动处理方法所使用的一基本频率与该 第二晃动处理方法所使用的一基本频率不同。 42.如申请专利范围第38项所述之碟片制造方法,其 中该第一晃动处理方法所使用的一通道时脉晃动 周期与该第二晃动处理方法所使用的一通道时脉 晃动周期不同。 43.如申请专利范围第37项所述之碟片制造方法,该 方法更包括: 执行控制使得在该第一区域中产生位址资讯时将 产生该第一位址;以及 执行控制使得在该第二区域中产生位址资讯时将 产生该第二位址。 44.如申请专利范围第43项所述之碟片制造方法,其 中该第二位址包括一个不包含于该第一位址之识 别码。 45.如申请专利范围第44项所述之碟片制造方法,其 中每一该第一位址及第二位址由一同步信号及位 址资料所构成,并且该第二位址所包括之该识别码 藉由下列各步骤当中至少一步骤来产生:改变该第 一位址的该同步信号的重复次数;改变该第一位址 的该同步信号的顺序;改变该第一位址的该同步信 号的组合;使用一预定样式;以及使用一预定组合 。 46.如申请专利范围第44项所述之碟片制造方法,其 中每一该第一位址及第二位址由一同步信号及位 址资料所构成,并且该第二位址所包括之该识别码 藉由将一个该第一位址不使用的识别码插入该第 二位址的该位址资料来表示。 47.如申请专利范围第44项所述之碟片制造方法,其 中形成该第二位址之复数个位元的一数目与形成 该第一位址之复数个位元的一数目不同。 48.如申请专利范围第37项所述之碟片制造方法,该 方法更包括: 执行控制使得在该第一区域中产生位址资讯时将 藉由一第一晃动处理方法处理该第一位址并藉由 一第一位址产生单元产生该第一位址;以及 执行控制使得在该第二区域中产生位址资讯时将 藉由一第二晃动处理方法处理该第二位址并藉由 一第二位址产生单元产生该第二位址。 49.一种资讯记录媒体,该资讯记录媒体包括: 一第一区域,该第一区域位于该资讯记录媒体的一 可记录资料区且使用一第一位址;以及 一第二区域,该第二区域位于该可记录资料区且其 所使用的一记录及/或再生单位方块的大小与该第 一区域所使用的一记录及/或再生单位方块的大小 不同,并且该第二区域使用一第二位址以便区别该 记录及/或再生单位方块与该第一区域的该记录及 /或再生单位方块。 50.如申请专利范围第49项所述之资讯记录媒体,其 中, 利用一种与产生该第二位址所使用的一晃动调变 方法不同之晃动调变方法来产生该第一位址; 利用一种与产生该第二位址所使用的一基本频率 不同之基本频率来产生该第一位址;或 利用一种与产生该第二位址所使用的一通道时脉 晃动周期不同之通道时脉晃动周期来产生该第一 位址。 51.如申请专利范围第49项所述之资讯记录媒体,其 中该第二位址包括一个不包含于该第一位址之识 别码。 52.如申请专利范围第49项所述之资讯记录媒体,其 中形成该第二位址之复数个位元的一数目与形成 该第一位址之复数个位元的一数目不同。 53.一种资讯记录媒体,该资讯记录媒体包括: 复数个记录及/或再生区域,该些记录及/或再生区 域位于该资讯记录媒体的一圆周,每一该记录及/ 或再生区域根据该记录及/或再生区域的该圆周长 度使用一特定记录及/或再生单位方块, 其中为了避免任一该记录及/或再生单位方块的长 度比个别的该记录及/或再生区域的该圆周长度还 长而导致重叠,因此该重叠区域所使用的一记录及 /或再生单位方块将与一非重叠区域所使用的一记 录及/或再生单位方块不同。 54.一种用以记录资料于资讯记录媒体或由该资讯 记录媒体读取资料之记录及/或再生装置,该装置 包括: 一信号处理单元,该信号处理单元执行复数个位址 的信号处理,以便区别复数个位于该资讯记录媒体 之记录及/或再生区域,其中该些复数个记录及/或 再生区域的任一个所包含的一记录及/或再生单位 方块的大小与该些复数个记录及/或再生区域的另 一个所包含的一记录及/或再生单位方块的大小不 同;以及 一控制单元,该控制单元利用该些复数个记录及/ 或再生区域的复数个位址的每一个来控制用以记 录及/或再生资料之该信号处理单元。 55.一种碟片制造装置,该装置包括: 一信号处理单元,该信号处理单元产生与一资讯记 录媒体上的复数个记录及/或再生区域相关之复数 个位址,使得每一该记录及/或再生区域能根据个 别使用的一记录及/或再生单位方块的大小彼此区 别;以及 一切割单元,该切割单元藉由该信号处理单元在该 资讯记录媒体上产生该些复数个位址, 其中一第一记录及/或再生区域位于该资讯记录媒 体的一第一区域,该第一区域的一圆周长度小于该 第一区域的一记录及/或再生单位方块的长度,一 第二记录及/或再生区域位于该资讯记录媒体的一 第二区域,该第二区域的一圆周长度不小于该第二 区域的一记录及/或再生单位方块的长度,该第一 记录及/或再生区域的该记录及/或再生单位方块 的大小与该第二记录及/或再生区域的该记录及/ 或再生单位方块的大小不同。 56.一种碟片制造装置的晃动信号处理单元,该晃动 信号处理单元包括: 第一及第二解调单元,该些解调单元解调该资讯记 录媒体所记录之资料的位址资讯;以及 一控制单元,该控制单元控制该位址资讯的解调使 得该第一解调单元解调该资讯记录媒体的一第一 记录及/或再生区域的位址资讯,而该第二解调单 元解调该资讯记录媒体的一第二记录及/或再生区 域的位址资讯。 57.一种用以区别资讯记录媒体上事先记录的两类 具有相同的晃动形状及相同的位址之不同的记录 及/或再生单位方块之方法,该方法包括: 将一识别码插入该资讯记录媒体的一记录区域的 一记录及/或再生方块,该记录区域的一圆周长度 等于或大于该记录及/或再生方块的长度, 其中具有包含该识别码之该记录及/或再生方块之 该资讯记录媒体的该记录区域能够与另一个其圆 周长度小于该记录及/或再生方块的长度之记录区 域有所区别。 58.一种藉由一电脑读取一电脑可读记录媒体上的 一电脑可读程式码之方法,该方法包括: 在该电脑可读记录媒体上产生一第一位址及一第 二位址,以便区别一个位于该电脑可读记录媒体的 一可记录资料区之第一区域与一个位于该可记录 资料区之第二区域,该第二区域所使用的一记录及 /或再生单位方块的大小与该第一区域所使用的一 记录及/或再生单位方块的大小不同。 图式简单说明: 第1图绘示根据习知方法当一个记录及/或再生单 位方块或一个错误修正码方块的长度超过一圆周 时一道产生于重叠区域之刮痕。 第2A图至第2D图绘示根据习知方法之一个记录为晃 动沟槽之预刻沟槽位址的位址结构。 第3图绘示一种应用本发明之小尺寸储存媒体的结 构。 第4A图与第4B图分别绘示根据本发明的第一特征以 相同的晃动形状反相同的位址来表示之第一区域 与第二区域的位址结构。 第5A图与第5B图分别绘示根据本发明的第一特征以 相同的晃动形状及相同的位址来表示之第一区域 与第二区域的位址结构。 第6A图与第6B图分别绘示根据本发明的第一特征以 相同的晃动形状及相同的位址来表示之第一区域 与第二区域的位址结构。 第7A图与第7B图分别绘示根据本发明的第一特征以 相同的晃动形状及相同的位址来表示之第一区域 与第二区域的位址结构。 第8A图与第8B图分别绘示根据本发明的第一特征以 相同的晃动形状及相同的位址来表示之第一区域 与第二区域的位址结构。 第9A图与第9B图分别绘示根据本发明的第一特征以 相同的晃动形状及相同的位址来表示之第一区域 与第二区域的位址结构。 第10A图与第10B图分别绘示根据本发明的第三特征 以两种不同的位址来表示之第一区域与第二区域 的位址结构。 第11图是根据本发明之一种碟片制造装置的简略 方块图。 第12图是根据本发明的第二特征如第11图所示之调 变单元的详细方块图。 第13图是根据本发明的第一及第三特征如第11图所 示之信号处理单元的详细方块图。 第14图是根据本发明之一种碟片驱动装置的简略 方块图。 第15图是根据本发明的第二特征如第14图所示之晃 动信号处理单元的详细方块图。 第16图是根据本发明的第一及第三特征如第14图所 示之位址侦测单元的详细方块图。 |
