| 主权项 |
1.一种微影装置,包括: 辐射系统,用以提供一辐射投影光束,该辐射系统 包括一照明系统以界定瞳平面内光束与位置相依 之强度分布; 支撑结构,用以支撑画图样构件,该照明系统根据 瞳平面内之位置相依强度分布界定该光束在画图 样构件处之角度相依强度分布; 用以支承基板之基板台面; 投影系统,用以将图样化之光束投影到基板的目标 部分上; 在投影光束之一路径内之光束分割器,用以分割出 一辅助光束; 具有检测元件之检测器,该检测器在辅助光束路径 内用来检测有关相当于瞳平面处之位置相依强度 分布的资讯;及 控制器,具有耦合至该检测器之一输入及耦合至该 照明系统之一输出, 其特征在于该光束分割器系位于该投影光束之该 路径内在该画图样构件前及该控制器系组态成用 以自该检测器接收检测到的资讯并提供一反馈至 该照明系统,以控制该照明系统之一参数。 2.如申请专利范围第1项之微影装置,包括一具有可 控制参数之光学元件以及该控制器系组态以根据 检测到的资讯来控制该可控制参数。 3.如申请专利范围第2项之微影装置,该控制器有一 介面以接收瞳平面处强度分布之所需位置相依性, 该控制器被配置以校准参数以便接近所需位置相 依性。 4.如申请专利范围第2或3项之微影装置,其中该光 学元件包括一元件阵列,各元件以各自独立的可控 制方向将投影光束重新定向,该控制器被配置以根 据该瞳平面内一区域上所需的强度和测得的强度 间之差异调整该等元件中将光束重新定向到该区 域的一部分。 5.如申请专利范围第2或3项之微影装置,其中该控 制器被配置以至少在基板曝光期间根据测得之位 置相依性控制参数。 6.如申请专利范围第1、2或3项之微影装置,其中该 光束分割器位于投影光束路径内距瞳平面一偏移 量处,该检测元件被配置以检测辅助光束各处之强 度分布,该控制器包括一去卷积单元以将瞳平面处 与检测元件处肇因于辐射沿着次路径在瞳平面与 检测元件间传播之强度分布差异去卷积。 7.如申请专利范围第1、2或3项之微影装置,其中该 光束分割器包括一反射镜表面反射投影光束的一 部分,该反射镜表面透射投影光束的另一部分当做 辅助光束,该检测元件大致在反射镜背侧表面处截 取该辅助光束。 8.如申请专利范围第1、2或3项之微影装置,其中该 光束分割器包括一反射镜表面反射投影光束的一 部分,该反射镜表面透射投影光束的另一部分当做 辅助光束,该检测元件在反射镜表面之后截取该辅 助光束,修正光学元件配置在反射镜表面与检测元 件之间。 9.如申请专利范围第1、2或3项之微影装置,包括一 原始瞳平面、一光导通棒、及一个或多个光学元 件,该光导通棒有反射侧壁以涂抹光束之强度分布 的位置相依性,该棒配置在投影光束内介于原始瞳 平面与原始瞳平面之一第一成像平面之间,该一个 或多个光学元件被用来将原始瞳平面成像于瞳平 面之第一成像平面上,该光束分割器位于光束路径 内跟在棒之后。 10.如申请专利范围第1、2或3项之微影装置,其中该 光束分割器位于光束路径内在原始瞳平面之前。 11.一种元件制造方法,该方法包括下列步骤: 提供一基板,该基板至少有一部分被一层辐射敏感 材料覆盖; 使用辐射系统提供一投影辐射光束,该辐射系统包 括一照明系统以界定瞳平面内投影光束位置相依 的强度分布,该位置相依性决定投影光束在基板处 之强度分布的角度相依性; 使用画图样构件以赋予投影光束横断面内一图样; 及 将图样化之辐射光束投影在辐射敏感材料层之目 标部分上, 其特征在于该方法进一步包括下列步骤 在该画图样构件前从投影光束分割出一辅助光束; 测量辅助光束各处之强度分布;及 经由一反馈环路根据在辅助光束各处测得之强度 分布控制瞳平面处之强度分布。 12.如申请专利范围第11项之元件制造方法,其中包 括接收到瞳平面处强度分布之所需位置相依性,且 在测得之位置相依性的控制下在该反馈环路内使 用照明系统之参数,以便使光束之强度分布的位置 相依性接近所需位置相依性。 13.如申请专利范围第12项之元件制造方法,其中该 照明系统包括一元件矩阵,各元件以各自独立的可 控制方向将投影光束重新定向,该方法包括根据该 瞳平面内一区域上所需的强度和测得的强度间之 差异调整该等元件中将光束重新定向到该区域的 一部分。 14.如申请专利范围第11、12或13项之元件制造方法, 其中该控制器被配置或用以在该层辐射敏感材料 曝光期间根据测得之位置相依性来控制该参数。 15.如申请专利范围第11、12或13项之元件制造方法, 其中该辅助光束在投影光束路径内一偏离瞳平面 的地方从投影光束中分割出来,且测量作业包括测 量辅助光束一表面各处之强度分布,及将瞳平面处 之强度分布与该表面处之强度分布间肇因于辐射 沿着一次路径在瞳平面与检测元件间传播的差异 去卷积。 16.如申请专利范围第11、12或13项之元件制造方法, 其中该分割步骤系使用一部分透明反射镜表面完 成,投影光束的一部分从该部分透明反射镜表面反 射且其余部分透射而形成辅助光束,透射之辅助光 束大致在该反射镜表面的背部表面处被截取以做 强度分布检测。 17.如申请专利范围第11、12或13项之元件制造方法, 包括将投影光束之强度分布均质化,该辅助光束在 均质化之后被分割出来。 18.如申请专利范围第11、12或13项之元件制造方法, 包括与调整瞳平面处之位置相依性的同时,调整基 板处之投影光束的强度分布位置相依性。 图式简单说明: 图1显示根据本发明一种实施例的微影投影设备; 图2概要显示光学路径的一种实施例; 图2a概要显示光学路径的细节;且 图3概要显示光学路径之另一种实施例。 |
