| 主权项 |
1.一种被覆金属氧化物及/或金属氢氧化物之金属 材料之制造方法,系于pH2~7之处理水溶液中,使金属 材料浸渍,而于该金属材料表面形成金属氧化物及 /或金属氢氧化物之皮膜者;又,该处理水溶液中含 有金属离子及该金属离子莫耳比4倍以上之氟离子 ,以及/或含有错离子,该错离子则含有金属及该金 属莫耳比4倍以上之氟;又,前述形成之金属氧化物 及/或金属氢氧化物之皮膜中系含有前述金属离子 。 2.如申请专利范围第1项之被覆金属氧化物及/或金 属氢氧化物之金属材料之制造方法,其中系使用复 数种含有不同金属离子之处理水溶液,以形成复数 层之金属氧化物及/或金属氢氧化物皮膜。 3.如申请专利范围第1项或第2项之被覆金属氧化物 及/或金属氢氧化物之金属材料之制造方法,其中 前述处理水溶液含有复数金属离子。 4.如申请专利范围第1项或第2项之被覆金属氧化物 及/或金属氢氧化物之金属材料之制造方法,其中 系使用复数种前述复数金属离子浓度不同之处理 水溶液,以形成浓度倾斜型皮膜。 5.如申请专利范围第1项或第2项之被覆金属氧化物 及/或金属氢氧化物之金属材料之制造方法,其中 前述处理水溶液进一步含有不会与氟形成错合物 及/或修饰成不会与氟形成错合物之金属离子。 6.如申请专利范围第1项或第2项之被覆金属氧化物 及/或金属氢氧化物之金属材料之制造方法,其中 前述处理水溶液系含氟金属错化合物之水溶液。 7.如申请专利范围第1项或第2项之被覆金属氧化物 及/或金属氢氧化物之金属材料之制造方法,其中 前述处理水溶液之pH値为3~4。 8.如申请专利范围第1项或第2项之被覆金属氧化物 及/或金属氢氧化物之金属材料之制造方法,其中 系将前述金属材料与较该金属材料标准电极电位 低之金属材料短路后,浸渍于前述处理水溶液。 9.如申请专利范围第1项或第2项之被覆金属氧化物 及/或金属氢氧化物之金属材料之制造方法,其中 前述金属材料为板厚10m以上之不锈钢板。 10.如申请专利范围第1项或第2项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之金属材料之制造方法,其 中前述金属材料为钢板或电镀钢板。 11.如申请专利范围第1项或第2项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之金属材料之制造方法,其 中前述金属材料系具有以锌及/或铝为主之电镀层 之电镀钢板者。 12.一种被覆金属氧化物及/或金属氢氧化物之导电 性材料之制造方法,系于pH2~7之处理水溶液中,将导 电性材料电解,而于该导电性材料表面形成金属氧 化物及/或金属氢氧化物之皮膜者;又,该处理水溶 液中含有金属离子及该金属离子莫耳比4倍以上之 氟离子,以及/或含有错离子,该错离子则含有金属 及该金属莫耳比4倍以上之氟;又,前述形成之金属 氧化物及/或金属氢氧化物之皮膜中系含有前述金 属离子。 13.如申请专利范围第12项之被覆金属氧化物及/或 金属氢氧化物之导电性材料之制造方法,其中系使 用复数种含有不同金属离子之处理水溶液,以形成 复数层之金属氧化物及/或金属氢氧化物皮膜。 14.如申请专利范围第12项或第13项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之导电性材料之制造方法, 其中前述处理水溶液含有复数金属离子。 15.如申请专利范围第12项或第13项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之导电性材料之制造方法, 其中系使用复数种前述复数金属离子浓度不同之 处理水溶液,以形成浓度倾斜型皮膜。 16.如申请专利范围第12项或第13项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之导电性材料之制造方法, 其中前述处理水溶液进一步含有不会与氟形成错 合物及/或修饰成不会与氟形成错合物之金属离子 。 17.如申请专利范围第12项或第13项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之导电性材料之制造方法, 其中前述处理水溶液系含氟金属错化合物之水溶 液。 18.如申请专利范围第12项或第13项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之导电性材料之制造方法, 其中前述处理水溶液之pH値为3~4。 19.如申请专利范围第12项或第13项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之导电性材料之制造方法, 其中电解前述导电性材料之方法包括有:于与前述 导电性材料之导电面相对向配设之电极之间充填 电解液,使导电轮接触于导电性材料之导电面,以 前述导电轮侧为(-)极且前述电极侧为(+)极外加电 压,于前述导电性材料连续形成金属氧化物及/或 金属氢氧化物。 20.如申请专利范围第12项或第13项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之导电性材料之制造方法, 其中电解前述导电性材料之方法包括有:于与前述 导电性材料之导电面相对向之前述导电性材料之 进行方向,配设二系统电极,并于前述导电性材料 与前述电极群间充填电解液,以前述一系统之电极 侧为(-)极且另一系统之电极侧为(+)极外加电压,于 前述导电性材料连去形成金属氧化物及/或金属氢 氧化物。 21.如申请专利范围第12项或第13项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之导电性材料之制造方法, 其中前述导电性材料之电传导度为0.1S/cm以上。 22.如申请专利范围第12项或第13项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之导电性材料之制造方法, 其中前述导电性材料为板厚10m以上之不锈钢板 。 23.如申请专利范围第12项或第13项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之导电性材料之制造方法, 其中前述导电性材料为钢板或电镀钢板。 24.如申请专利范围第12项或第13项之被覆金属氧化 物及/或金属氢氧化物之导电性材料之制造方法, 其中前述导电性材料系具有以锌及/或铝为主之电 镀层之电镀钢板。 图式简单说明: 第1图系直接电解/单面被覆之设备之构造图。 第2图系直接电解/双面被覆之设备之构造图。 第3图系间接电解/单面被覆之设备之构造图。 第4图系间接电解/双面被覆之设备之构造图。 |
