| 主权项 |
1.一种真空镀膜装置,包括: 一真空腔室; 一旋转支撑组件; 一基板支撑架,设置于真空腔室内,其与旋转支撑 组件连接,包括复数基板; 一蒸镀源,位于真空腔室内与基板支撑架相对位置 处; 其中,该真空镀膜装置进一步包括一翻面装置及一 翻面控制装置,翻面控制装置设置于真空腔室外, 该翻面装置位于真空腔室内,且与该基板支撑架连 接,藉由该翻面装置及翻面控制装置可使该复数基 板于真空腔室内水平翻转,该翻面装置包括一翻转 马达、一翻面齿轮、一传动装置及复数转动齿轮, 该翻转马达与翻面齿轮连接,该传动装置分别与该 翻面齿轮及转动齿轮相啮合,该转动齿轮与基板固 定连接。 2.如申请专利范围第1项所述之真空镀膜装置,其中 该传动装置为一具齿纹之链条。 3.如申请专利范围第1项所述之真空镀膜装置,其中 该旋转支撑组件包括一主马达、一中心转轴及一 主支撑架,该主支撑架与该基板支撑架连接。 4.如申请专利范围第3项所述之真空镀膜装置,其中 该主支撑架为一方形体,其包括二侧壁。 5.如申请专利范围第4项所述之真空镀膜装置,其中 该二侧壁上分别开设有复数间隔布置之通孔,用以 与复数基板之两端部配合。 6.如申请专利范围第1项所述之真空镀膜装置,其中 该基板上间隔开设有复数开口。 7.如申请专利范围第1项所述之真空镀膜装置,其中 该真空腔室之形状可为为长方体、正方体、球体 或圆柱体。 8.如申请专利范围第1项所述之真空镀膜装置,其中 该该蒸镀源藉由电阻式加热或电子束加热。 图式简单说明: 第一图系本发明镀膜装置之立体图; 第二图系本发明镀膜装置之部份结构立体图。 第三图系第二图之沿Ⅲ-Ⅲ之剖视图。 |
