| 主权项 |
1.一种管理数台微影制程机台的整合系统,适用于 获得具有一第一识别码之一第一层之一覆盖补偿 参数组,该第一层系预定于一第一微影制程机台中 ,并以一第一光罩,形成于一前处理层上,其中该第 一微影制程机台具有一第三识别码,该第一光罩具 有一第二识别码,且该前处理层系于具有一第四识 别码之一第一前机台中形成,该整合系统包括: 一接收装置,用于接收一组变数,其中该组变数包 括该第一辨识码、该第二辨识码、该第三辨识码 以及该第四辨识码; 一储存装置,用于储存一处理层覆盖补偿参数资料 库于一记忆储存媒体,其中该处理层覆盖补偿参数 资料库包括复数个处理层资料页,且每一该些处理 层资料页包括: 一历史记录资料群,该历史记录资料群具有相对应 该处理层资料页之一处理层之至少一历史记录覆 盖补偿参数组,伴随着每一该些历史记录覆盖补偿 参数组,有相对应该历史记录覆盖补偿参数组的一 相关资讯组,每一该些相关资讯组包括具有一第五 辨识码之一第二光罩、具有一第六辨识码之一第 二微影制程机台以及具有一第七辨识码之一第二 前机台; 一光罩偏差资料银行,该光罩偏差资料银行具有复 数个光罩偏差资料; 一微影制程机台偏差资料银行,该微影制程机台偏 差资料银行具有复数个微影制程机台偏差资料;以 及 一前机台偏差资料银行,该前机台偏差资料银行具 有复数个前机台偏差资料; 一搜寻装置,该搜寻装置根据接收的该第一识别码 ,搜寻一处理层资料页; 一计算装置,该计算装置利用选自该处理层资料页 中之该历史记录资料群中的一第一历史记录覆盖 补偿参数组以及包含对应该第二辨识码与该第五 辨识码之该光罩偏差资料、对应该第三辨识码与 该第六辨识码之该微影制程机台偏差资料以及对 应该第四辨识码与该第七辨识码之该前机台偏差 资料的一偏差资料组,以计算该第一层之该覆盖补 偿参数组;以及 一再生装置,再生该处理层覆盖补偿参数资料库。 2.如申请专利范围第1项所述之整合系统,其中每一 该光罩偏差资料之一光罩偏差资料値系根据RX1,X2= MaskX1-MaskX2决定,其中RX1,X2系表示该光罩偏差资料 値,MaskX1与MaskX2分别表示以一识别码X1之一第三光 罩所形成之该处理层的一第一覆盖补偿参数测量 値组,以及以一识别码X2之一第四光罩所形成之该 处理层的一第二覆盖补偿参数测量値组。 3.如申请专利范围第1项所述之整合系统,其中每一 该微影制程机台偏差资料之一微影制程机台偏差 资料値系根据MY1,Y2= PhotolithographyToolY1- PhotolithographyToolY2决定,其中MY1,Y2系表示该微影制 程机台偏差资料値,PhotolithographyToolY1与 PhotolithographyToolY2分别表示以一识别码Y1之一第三 微影制程机台所形成之该处理层的一第三覆盖补 偿参数测量値组,以及以一识别码Y2之一第四微影 制程机台所形成之该处理层的一第四覆盖补偿参 数测量値组。 4.如申请专利范围第1项所述之整合系统,其中每一 该前机台偏差资料之一前机台偏差资料値系根据 NZ1,Z2 =preToolZ1-preToolZ2决定,其中NZ1,Z2系表示该前机 台偏差资料値,preToolZ1与preToolZ2分别表示以一识别 码Z1之一第五微影制程机台所形成之该处理层的 一第五覆盖补偿参数测量値组,以及以一识别码Z2 之一第六微影制程机台所形成之该处理层的一第 六覆盖补偿参数测量値组。 5.如申请专利范围第1项所述之整合系统,其中该第 一层之该覆盖补偿参数组系根据Layera,b,c=Layerd,e,f +Ra,d+Mb,e+Nc,f决定,其中,a表示该第二识别码、b表示 该第三识别码、c表示该第四识别码、d表示该第 五识别码、e表示该第六识别码以及f表示该第七 识别码,而Layera,b,c表示该第一层之该覆盖补偿参 数组,Layerd,e,f表示记录于该历史记录资料群中之 该第一历史记录覆盖补偿参数组,且Ra,d表示相对 应具有该第二辨识码之该第一光罩与具有该第五 辨识码之该第二光罩的一光罩偏差资料値,Mb,e表 示相对应具有该第三辨识码之该第一微影制程机 台与具有该第六辨识码之该第二微影制程机台的 一微影制程机台偏差値,Nc,f表示相对应具有该第 四辨识码之该第一前机台与具有该第七辨识码之 该第二前机台的一前机台偏差値。 6.如申请专利范围第1项所述之整合系统,更包括一 即时装置,用于即时收集复数组覆盖补偿参数,并 且储存该些组覆盖补偿参数于一暂存列,其中该暂 存列储存于该记忆储存媒体中。 7.如申请专利范围第1项所述之整合系统,其中该些 光罩偏差资料以一阵列资料结构型态储存于该光 罩偏差资料银行中,且经由参考一对光罩之一对辨 识码,找到相对应该对光罩之一光罩偏差资料之一 光罩偏差资料値。 8.如申请专利范围第1项所述之整合系统,其中该些 微影制程机台偏差资料以一阵列资料结构型态储 存于该微影制程机台偏差资料银行中,且经由参考 一对微影制程机台之一对辨识码,找到相对应该对 微影制程机台之一微影制程机台偏差资料之一微 影制程机台偏差资料値。 9.如申请专利范围第1项所述之整合系统,其中该些 前机台偏差资料以一阵列资料结构型态储存于该 前机台偏差资料银行中,且经由参考一对前机台之 一对辨识码,找到相对应该对前机台之一前机台偏 差资料之一前机台偏差资料値。 10.一种管理数台微影制程机台的整合系统操作方 法,适用于由一整合系统中获得一第一层之一覆盖 补偿参数组之方法,该第一层具有一第一识别码, 且该第一层系预定于一第一微影制程机台中,并以 一第一光罩,形成于一前处理层上,其中该第一微 影制程机台具有一第三识别码,该第一光罩具有一 第二识别码,且该前处理层系于具有一第四识别码 之一第一前机台中形成,该整合系统操作方法包括 : 提供一变数组至该整合系统,该变数组包括该第一 识别码、该第二识别码、该第三识别码以及该第 四识别码,该整合系统具有一处理层覆盖补偿参数 资料库,该处理层覆盖补偿参数资料库包括复数个 处理层资料页,且每一该些处理层资料页包括: 一历史记录资料群,该历史记录资料群具有相对应 处理层资料页之一处理层之至少一历史记录覆盖 补偿参数组,伴随着每一该些历史记录覆盖补偿参 数组,有相对应该历史记录覆盖补偿参数组的一相 关资讯组,每一该些相关资讯组包括具有一第五辨 识码之一第二光罩、具有一第六辨识码之一第二 微影制程机台以及具有一第七辨识码之一第二前 机台; 一光罩偏差资料银行,该光罩偏差资料银行具有复 数个光罩偏差资料; 一微影制程机台偏差资料银行,该微影制程机台偏 差资料银行具有复数个微影制程机台偏差资料;以 及 一前机台偏差资料银行,该前机台偏差资料银行具 有复数个前机台偏差资料; 参考提供之该第一识别码,以搜寻一处理层资料页 ;以及 利用选自该处理层资料页中之该历史记录资料群 中的一第一历史记录覆盖补偿参数组,以及包括该 光罩偏差资料、该微影制程偏差资料以及该前机 台偏差资料之一偏差资料组,而计算出该第一层之 该覆盖补偿参数组,其中该光罩偏差资料、该微影 制程偏差资料以及该前机台偏差资料,系经由参照 该变数组与该处理层之该历史记录资料群中的所 选择的该第一历史记录之相对应的一相关资讯组, 而分别选自该光罩偏差资料银行中之对应该第二 辨识码与该第五辨识码之该光罩偏差资料、该微 影制程机台偏差资料银行中之对应该第三辨识码 与该第六辨识码之该微影制程机台偏差资料以及 该前机台偏差资料银行中之对应该第四辨识码与 该第七辨识码之该前机台偏差资料之一偏差资料 组。 11.如申请专利范围第10项所述之管理数台微影制 程机台的整合系统操作方法,其中每一该光罩偏差 资料之一光罩偏差资料値系根据RX1,X2= MaskX1-MaskX2 决定,其中RX1,X2系表示该光罩偏差资料値,MaskX1与 MaskX2分别表示以一识别码X1之一第三光罩所形成 之该处理层的一第一覆盖补偿参数测量値组,以及 以一识别码X2之一第四光罩所形成之该处理层的 一第二覆盖补偿参数测量値组。 12.如申请专利范围第10项所述之管理数台微影制 程机台的整合系统操作方法,其中每一该微影制程 机台偏差资料之一微影制程机台偏差资料値系根 据MY1,Y2= PhotolithographyToolY1- PhotolithoglaphyToolY2决定, 其中MY1,Y2系表示该微影制程机台偏差资料値, PhotolithographyToolY1与PhotolithographyToolY2分别表示以 一识别码Y1之一第三微影制程机台所形成之该处 理层的一第三覆盖补偿参数测量値组,以及以一识 别码Y2之一第四微影制程机台所形成之该处理层 的一第四覆盖补偿参数测量値组。 13.如申请专利范围第10项所述之管理数台微影制 程机台的整合系统操作方法,其中每一该前机台偏 差资料之一前机台偏差资料値系根据NZ1,Z2 =preToolZ 1-preToolZ2决定,其中NZ1,Z2系表示该前机台偏差资料 値,preToolZ1与preToolZ2分别表示以一识别码Z1之一第 五微影制程机台所形成之该处理层的一第五覆盖 补偿参数测量値组,以及以一识别码Z2之一第六微 影制程机台所形成之该处理层的一第六覆盖补偿 参数测量値组。 14.如申请专利范围第10项所述之管理数台微影制 程机台的整合系统操作方法,其中该第一层之该覆 盖补偿参数组系根据Layera,b,c=Layerd,e,f+Ra,d +Mb,e+Nc,f 决定,其中,a表示该第二识别码、b表示该第三识别 码、c表示该第四识别码、d表示该第五识别码、e 表示该第六识别码以及f表示该第七识别码,而 Layera,b,c表示该第一层之该覆盖补偿参数组,Layerd,e ,f表示记录于该历史记录资料群中之该第一历史 记录覆盖补偿参数组,且Ra,d表示相对应具有该第 二辨识码之该第一光罩与具有该第五辨识码之该 第二光罩的一光罩偏差资料値,Mb,e表示相对应具 有该第三辨识码之该第一微影制程机台与具有该 第六辨识码之该第二微影制程机台的一微影制程 机台偏差値,Nc,f表示相对应具有该第四辨识码之 该第一前机台与具有该第七辨识码之该第二前机 台的一前机台偏差値。 15.如申请专利范围第10项所述之管理数台微影制 程机台的整合系统操作方法,更包括: 即时收集复数组覆盖补偿参数; 储存该些覆盖补偿参数组于一暂存列,该暂存列储 存于一记忆储存媒体中;以及 利用该暂存列,再生该处理层覆盖补偿参数资料库 。 16.一种管理数台微影制程机台的整合系统操作方 法,适用于更新一整合系统,该整合系统操作方法 包括: 提供一变数组至该整合系统,该变数组包括一第一 层识别码、一第一光罩识别码、一第一微影制程 机台识别码、一第一前机台识别码以及一第一覆 盖补偿参数组,其中该第一覆盖补偿参数组是经由 进行一测试步骤所获得,而该整合系统具有一处理 层覆盖补偿参数资料库,该处理层覆盖补偿参数资 料库包括复数个处理层资料页,且每一该些处理层 资料页包括: 一历史记录资料群,该历史记录资料群具有相对应 该处理层资料页之一处理层之至少一历史记录覆 盖补偿参数组,伴随着每一该些历史记录覆盖补偿 参数组,有相对应该历史记录覆盖补偿参数组的一 相关资讯组,每一该些相关资讯组包括一第二光罩 辨识码、一第二微影制程机台辨识码以及一第二 前机台辨识码; 一光罩偏差资料银行,该光罩偏差资料银行具有复 数个光罩偏差资料; 一微影制程机台偏差资料银行,该微影制程机台偏 差资料银行具有复数个微影制程机台偏差资料;以 及 一前机台偏差资料银行,该前机台偏差资料银行具 有复数个前机台偏差资料; 参考输入之该第一层识别码,以搜寻一处理层资料 页; 利用选自该处理层资料页中该历史记录资料群中 之一第一历史记录覆盖补偿参数组,以及该第一覆 盖补偿参数组,以一代数运算,计算出包括一第一 光罩偏差资料、一第一微影制程偏差资料以及一 第一前机台偏差资料之一新偏差资料组;以及 分别储存该新偏差资料组至该光罩偏差资料银行 、该微影制程偏差资料银行与该前机台偏差资料 银行中。 17.如申请专利范围第16项所述之管理数台微影制 程机台的整合系统操作方法,其中每一该光罩偏差 资料之一光罩偏差资料値系根据RX1,X2 =MaskX1-MaskX2 决定,其中RX1,X2系表示该光罩偏差资料値,MaskX1与 MaskX2分别表示以一识别码X1之一第三光罩所形成 之该处理层的一第一覆盖补偿参数测量値组,以及 以一识别码X2之一第四光罩所形成之该处理层的 一第二覆盖补偿参数测量値组。 18.如申请专利范围第16项所述之管理数台微影制 程机台的整合系统操作方法,其中每一该微影制程 机台偏差资料之一微影制程机台偏差资料値系根 据MY1,Y2=PhotolithographyToolY1- PhotolithographyToolY2决定, 其中MY1,Y2系表示该微影制程机台偏差资料値, PhotolithographyToolY1与PhotolithographyToolY2分别表示以 一识别码Y1之一第三微影制程机台所形成之该处 理层的一第三覆盖补偿参数测量値组,以及以一识 别码Y2之一第四微影制程机台所形成之该处理层 的一第四覆盖补偿参数测量値组。 19.如申请专利范围第16项所述之管理数台微影制 程机台的整合系统操作方法,其中每一该前机台偏 差资料之一前机台偏差资料値系根据NZ1,Z2 =preToolZ 1-preToolZ2决定,其中NZ1,Z2系表示该前机台偏差资料 値,preToolZ1与preToolZ2分别表示以一识别码Z1之一第 五微影制程机台所形成之该处理层的一第五覆盖 补偿参数测量値组,以及以一识别码Z2之一第六微 影制程机台所形成之该处理层的一第六覆盖补偿 参数测量値组。 20.如申请专利范围第16项所述之管理数台微影制 程机台的整合系统操作方法,其中该代数运算是利 用: 一第一运算式,该第一运算式是以RX1,X2=MaskX1-MaskX2 表示之,其中RX1,X2系表示该光罩偏差资料値,MaskX1 与MaskX2分别表示以一识别码X1之一第三光罩所形 成之该处理层的一第一覆盖补偿参数测量値组,以 及以一识别码X2之一第四光罩所形成之该处理层 的一第二覆盖补偿参数测量値组; 一第二运算式,该第二运算式是以MY1,Y2= PhotolithographyToolY1-PhotolithographyToolY2表示之,其中MY1 ,Y2系表示该微影制程机台偏差资料値, PhotolithographyToolY1与PhotolithographyToolY2分别表示以 一识别码Y1之一第三微影制程机台所形成之该处 理层的一第三覆盖补偿参数测量値组,以及以一识 别码Y2之一第四微影制程机台所形成之该处理层 的一第四覆盖补偿参数测量値组;以及 一第三运算式,该第三运算式是以NZ1,Z2=preToolZ1- preToolZ2表示之,其中NZ1,Z2系表示该前机台偏差资料 値,preToolZ1与preToolZ2分别表示以一识别码Z1之一第 五微影制程机台所形成之该处理层的一第五覆盖 补偿参数测量値组,以及以一识别码Z2之一第六微 影制程机台所形成之该处理层的一第六覆盖补偿 参数测量値组。 21.如申请专利范围第16项所述之管理数台微影制 程机台的整合系统操作方法,更包括: 即时收集复数组覆盖补偿参数; 储存该些覆盖补偿参数组于一暂存列,该暂存列储 存于一记忆储存媒体中;以及 利用该暂存列,再生该处理层覆盖补偿参数资料库 。 图式简单说明: 图1系绘示根据本发明之一较佳实施例之一处理层 覆盖补偿参数资料库。 图2系绘示根据本发明之一较佳实施例之覆盖补偿 参数之资料分类目录。 图3系绘示当整合系统中具有光罩、微影制程机台 以及前机台之记录时,根据本发明之一较佳实施例 之一种整合系统操作方法流程图。 图4系绘示当整合系统中没有光罩、微影制程机台 或是前机台任一之记录时,根据本发明之一较佳实 施例之一种整合系统操作方法流程图。 |
