发明名称 可降解的化学发光方法及产物
摘要 本发明教示一种化学发光装置,与其制造之方法。本发明特别是关于一种制造的化学发光物品,其包括一种保留(containment)装置和化学系统,两者均可被选择以使其在使用之后特别容易受到环境降解。在较佳具体例中,该化学发光装置可归类为生物可降解的,即,设计成能够失去其物理形式且再返回环境中。
申请公布号 TWI280974 申请公布日期 2007.05.11
申请号 TW091133693 申请日期 2002.11.19
申请人 全虹公司 发明人 厄尔可瑞诺
分类号 C09K11/07(2006.01);C09K11/01(2006.01) 主分类号 C09K11/07(2006.01)
代理机构 代理人 林镒珠 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项 1.一种用于选择含有化学光草酸酯系统及化学光 活化剂系统之生物可降解的化学发光制造光线系 统之方法,系包含: 首先根据下列的标准来选择一种草酸酯溶剂; 选择需要赋予特别的生物可降解的特征之一般的 一组溶剂参数; 选择一类满足该等参数的溶剂; 指定包含羧基-苯基基团之该类溶剂的成员: 将该等成员依照水溶混性的顺序而分组; 选择将活性化学光成分的溶解度最佳化之该组的 成员; 其中选择50/50二苯甲酸丙二醇酯和柠檬酸乙醯基 三丁酯的混合物作为该草酸酯溶剂; 制造具有该活性化学光成分之不同组合的掺合物; 以不同溶剂之对不同颜色光线的不同的吸收为函 数,实验来将该溶剂和活性化学光成分的组合最佳 化; 其次,根据下列的标准来选择一种活化剂溶剂; 回到上面所选的溶剂类别; 由该类溶剂中,找出具有可有效稳定该化学光活化 剂系统的过氧化物成分的水中溶混性的所有成员; 并且 将活化剂成分掺合于该具有可有效稳定该过氧化 物成分之溶混性的溶剂; 藉以于混合时,从该草酸酯系统及该过氧化物系统 发射出可见光,且该混合物为天然细菌所能消耗的 ,而定义一种生物可降解的化学发光制造光线系统 。 2.一种包括生物可降解之聚合物组成物的化学发 光制造光线装置,该生物可降解之聚合物组成物形 成一包封至少一个内部可破碎小瓶的外部保留装 置,该外部保留装置和该小瓶包含一化学系统,该 外部保留装置和该小瓶各分别包含该化学系统之 草酸酯成分和过氧化物成分中的一种,该草酸酯成 分和过氧化物成分当于该聚合物外部保留装置中 混合时制造可见光,该草酸酯成分包括50/50二苯甲 酸丙二醇酯和柠檬酸乙醯基三丁酯的混合物; 其中该生物可降解之聚合物组成物包括至少一种 选自由聚乙醇酸、聚乳酸、聚己酸内酯、聚羟基 丁酸酯、聚羟基戊酸酯、聚乙烯醇、聚乙酸乙烯 酯和聚醚酮所组成组群之聚合材料。 3.一种化学发光制造光线装置,该装置包括一种可 崩解以失去其物理形式之聚合物组成物,该聚合物 组成物形成一包封至少一个内部可破碎小瓶的外 部保留装置,该外部保留装置和该小瓶包含一化学 系统,该外部保留装置和该小瓶各分别包含该化学 系统之草酸酯成分和过氧化物成分中的一种,该草 酸酯成分和过氧化物成分当于该聚合物外部保留 装置中混合时制造可见光,该草酸酯成分包括50/50 二苯甲酸丙二醇酯和柠檬酸乙醯基三丁酯的混合 物; 其中该聚合物组成物包括淀粉/聚烯烃组合,藉此 该聚合物组成物是可崩解的。 4.如申请专利范围第3项之化学发光制造光线装置, 其中被保有在其中之该化学统是生物可降解的。 5.如申请专利范围第4项之化学发光制造光线装置, 其中该化学系统包括约8.4% CPPO,0.19% BPEA及91.41%之50 /50%二苯甲酸丙二醇酯和柠檬酸乙醯基三丁酯的混 合物于该草酸酯成分中,及一约85%柠檬酸三乙酯,10 %第三丁醇,5%之70%浓度的过氧化氢及0.0085%水杨酸 钠盐之混合物于该过氧化物成分中。 6.一种化学发光制造光线装置,该装置包括一种光 可降解以失去其物理形式之聚合物组成物,该聚合 物组成物形成一包封至少一个内部可破碎小瓶的 外部保留装置,该外部保留装置和该小瓶包含一化 学系统,该外部保留装置和该小瓶各分别包含该化 学系统之草酸酯成分和过氧化物成分中的一种,该 草酸酯成分和过氧化物成分当于该聚合物外部保 留装置中混合时制造可见光,该草酸酯成分包括50/ 50二苯甲酸丙二醇酯和柠檬酸乙醯基三丁酯的混 合物; 其中该聚合物组成物包括光可降解的聚合物,其包 含UV敏感性成分,藉此当遭受到紫外光(UV)时该紫外 光(UV)敏感性成分可光降解。 7.如申请专利范围第6项之化学发光制造光线装置, 其中被保有在其中之该化学系统是生物可降解的 。 8.如申请专利范围第6项之化学发光制造光线装置, 其中该化学系统包括约8.4% CPPO,0.19% BPEA及91.41%之50 /50%二苯甲酸丙二醇酯和柠檬酸乙醯基三丁酯的混 合物于该草酸酯成分中,及一约85%柠檬酸三乙酯,10 %第三丁醇,5%之70%浓度的过氧化氢及0.0085%水杨酸 钠盐之混合物于该过氧化物成分中。 9.如申请专利范围第6项之化学发光制造光线装置, 其中该UV敏感性成分包含选自由酮式羰基共聚物, 一氧化碳共聚物或金属盐类所组成组群之一员。
地址 美国