| 主权项 |
1.一种放射线敏感性树脂组成物,其特征为含有: 共聚物(A),其包含从不饱和羧酸衍生之构成单位(a1 )及从具有氧杂环丁基(oxetanyl)之不饱和化合物(限 制条件为不饱和羧酸除外)衍生之构成单位(a2);以 及通式(1)所示之酚化合物之二叠氮化物磺酸酯( B): (式中, Y1、Y2及Z1至Z7各自独立,表示可经卤素原子取代之 碳数1至4之烷基、氢原子或羟基,Y1及Y2中之至少一 者为羟基且Z1至Z7中之至少二者表示羟基; R1至R6各自独立,表示氢原子、碳数1至10之烷基、 碳数2至4之烯基、碳数3至10之环烷基或苯基,该苯 基亦可被碳数1至4之烷基、卤素原子或碳数1至4之 烷氧基取代)。 2.如申请专利范围第1项之组成物,其中包含从不饱 和羧酸衍生之构成单位(a1)及从具有氧杂环丁基之 不饱和化合物(限制条件为不饱和羧酸除外)衍生 之构成单位(a2)之共聚物(A)之含量,相对于放射线 敏感性树脂组成物之固形分,质量分率为60至95%,通 式(1)所示之酚化合物之二叠氮化物磺酸酯(B)之 含量,相对于上述之固形分,质量分率为5至40%。 3.如申请专利范围第1或2项之组成物,其中共聚物(A )另包括从具有烯烃性双键之羧酸酯衍生之构成单 位(a31)、从芳香族乙烯系化合物衍生之构成单位(a 32)、从氰化乙烯系化合物衍生之构成单位(a33)及 从N-取代顺丁烯二醯亚胺化合物衍生之构成单位(a 34)所成群组中选出之至少1种构成单位(a30)。 4.如申请专利范围第1或2项之组成物,其中共聚物(A )另包括从具有烯烃性双键之羧酸酯衍生之构成单 位(a31)、从芳香族乙烯系化合物衍生之构成单位(a 32)及从氰化乙烯系化合物衍生之构成单位(a33)所 成群组中选出之至少1种构成单位(a30)。 5.如申请专利范围第1项之组成物,其另含有阳离子 聚合起始剂(C)。 6.如申请专利范围第5项之组成物,其中阳离子聚合 起始剂(C)之含量,相对于共聚物(A)之固形分,质量 分率为0.01至10%。 7.一种透明硬化树脂图案,其系使用申请专利范围 第1至6项中任一项之组成物形成。 8.一种透明硬化树脂图案之制造方法,其特征为:将 申请专利范围第1至6项中任一项之组成物涂布于 基板上,继而透过遮罩照射放射线后,显影以形成 所设定之图案,然后照射放射线。 9.如申请专利范围第8项之制造方法,其中于显影形 成所设定之图案并继而照射放射线后,进行加热。 图式简单说明: 第1图(a)至(c)为表示使用本发明之放射线敏感性树 脂组成物形成透明硬化树脂图案之步骤之模式图 。 |
