| 主权项 |
1.一种臭氧处理装置,系以臭氧透过膜隔离原料水 及臭氧,并让前述臭氧通过前述臭氧透过膜而溶解 于前述原料水;其特征在于,前述臭氧透过膜为只 容许气体通过而阻止液体透过之由氟系树脂或矽 酮树脂所构成之非多孔性中空管。 2.如申请专利范围第1项之臭氧处理装置,其中,臭 氧透过膜系由氟系树脂所构成,且管厚为0.2mm以下 。 3.如申请专利范围第1项之臭氧处理装置,其中,臭 氧透过膜系由矽酮树脂所构成,且管厚未达0.1mm。 4.如申请专利范围第1项之臭氧处理装置,系具有自 原料水脱除溶解气体之脱气部。 5.一种臭氧处理装置,其特征在于,具有: 脱气部,系自原料水将溶解气体脱气; 臭氧溶解部,系用以让臭氧溶解于已脱气之原料水 ,来生成一次臭氧水;以及 臭氧浓度调整部,系自前述一次臭氧水将所需量之 溶解臭氧脱气,来控制溶解臭氧浓度,以生成二次 臭氧水。 6.如申请专利范围第5项之臭氧处理装置,系具有: 第1臭氧检测器,系用以检测一次臭氧水之溶解臭 氧浓度;以及 第2臭氧检测器,系用以检测二次臭氧水之溶解臭 氧浓度。 7.如申请专利范围第5项之臭氧处理装置,其中,臭 氧浓度调整部系具备:减压容器;以及,脱气管,其设 于减压容器内,只容许气体通过而阻止液体透过; 在将前述减压容器内减压之状态下,让一次臭氧水 流通于前述脱气管内。 8.如申请专利范围第5项之臭氧处理装置,其中,臭 氧浓度调整部系具备:减压容器;以及,脱气管,其设 于减压容器内,只容许气体通过而阻止液体透过; 在将前述脱气管内减压之状态下,对前述减压容器 供给一次臭氧水。 9.如申请专利范围第7或第8项之臭氧处理装置,其 中,脱气管系由氟系树脂或矽酮系树脂所构成。 10.一种光阻剂去除装置,具备:臭氧溶解部(将原料 水与臭氧藉由臭氧透过膜来隔离,使得臭氧通过该 臭氧透过膜而溶解于该原料水中)以及光阻剂去除 槽;其特征在于: 该臭氧透过膜为只容许气体通过而阻止液体透过 之由氟系树脂或矽酮树脂所构成之非多孔性中空 管。 11.一种基板洗净装置,具备:臭氧溶解部(将原料水 与臭氧藉由臭氧透过膜来隔离,使得臭氧通过该臭 氧透过膜而溶解于该原料水中)以及基板洗净室; 其特征在于: 该臭氧透过膜为只容许气体通过而阻止液体透过 之由氟系树脂或矽酮树脂所构成之非多孔性中空 管。 图式简单说明: 图1为表示本发明之臭氧处理装置之一实施态样之 说明图。 图2为表示本发明所用臭氧溶解组件之一实施态样 之模式图。 图3为表示本发明所用臭氧溶解系统之一实施态样 之说明图。 图4为表示本发明所用之光阻剂去除装置之一实施 态样之概略图。 图5为表示本发明之基板洗净装置之实施态样之说 明图。 |
