发明名称 METHOD FOR IN-SITU CLEANING OF SURFACES IN A SUBSTRATE PROCESSING CHAMBER
摘要
申请公布号 KR100716325(B1) 申请公布日期 2007.05.11
申请号 KR20000061872 申请日期 2000.10.20
申请人 发明人
分类号 B01J19/00;H01L21/304;C23C14/00;C23C16/44;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065 主分类号 B01J19/00
代理机构 代理人
主权项
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