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发明名称
METHOD FOR IN-SITU CLEANING OF SURFACES IN A SUBSTRATE PROCESSING CHAMBER
摘要
申请公布号
KR100716325(B1)
申请公布日期
2007.05.11
申请号
KR20000061872
申请日期
2000.10.20
申请人
发明人
分类号
B01J19/00;H01L21/304;C23C14/00;C23C16/44;H01L21/205;H01L21/302;H01L21/3065
主分类号
B01J19/00
代理机构
代理人
主权项
地址
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