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发明名称 MICROFABRICATED TEMPLATE FOR MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAM CALIBRATIONS AND SHIELDED CHARGED PARTICLE BEAM LITHOGRAPHY
摘要
申请公布号 IL140714(D0) 申请公布日期 2002.02.10
申请号 IL20000140714 申请日期 2000.05.03
申请人 ETEC SYSTEMS, INC. 发明人
分类号 G03F1/16;G03F7/20;G03F9/00;H01J37/305;H01J37/317;H01L21/027;(IPC1-7):H01J 主分类号 G03F1/16
代理机构 代理人
主权项
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