发明名称 |
Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen |
摘要 |
Die vorliegende Patentanmeldung betrifft ein Verfahren sowie eine Beizlösung zum Beizen einer nicht leitenden Substratoberfläche vor der Metallisierung, insbesondere zum Beizen von Polyamid- oder ABS-Kunststoffoberflächen. Erfindungsgemäß werden die zu beizenden Oberflächen mit einer ein Halogenid und/oder Nitrat aufweisenden Beizlösung behandelt.
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申请公布号 |
DE102005051632(A1) |
申请公布日期 |
2007.05.10 |
申请号 |
DE200510051632 |
申请日期 |
2005.10.28 |
申请人 |
ENTHONE INC. |
发明人 |
SCHILDMANN, MARK PETER;PRINZ, ULRICH;KOENIGSHOFEN, ANDREAS |
分类号 |
C25D5/54;C08J7/12 |
主分类号 |
C25D5/54 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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