发明名称 Verfahren zum Beizen von nicht leitenden Substratoberflächen
摘要 Die vorliegende Patentanmeldung betrifft ein Verfahren sowie eine Beizlösung zum Beizen einer nicht leitenden Substratoberfläche vor der Metallisierung, insbesondere zum Beizen von Polyamid- oder ABS-Kunststoffoberflächen. Erfindungsgemäß werden die zu beizenden Oberflächen mit einer ein Halogenid und/oder Nitrat aufweisenden Beizlösung behandelt.
申请公布号 DE102005051632(A1) 申请公布日期 2007.05.10
申请号 DE200510051632 申请日期 2005.10.28
申请人 ENTHONE INC. 发明人 SCHILDMANN, MARK PETER;PRINZ, ULRICH;KOENIGSHOFEN, ANDREAS
分类号 C25D5/54;C08J7/12 主分类号 C25D5/54
代理机构 代理人
主权项
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