发明名称 | 真空承载设备 | ||
摘要 | 本发明公开了一种真空承载设备,包含一真空承载平台、一传输管路、一真空槽、一储水槽与至少一阀门。真空承载平台具有通孔,传输管路的第一端连接至通孔,第二端连接至真空泵,第三端连接至去离子水源。真空槽连接于第一端与第二端之间,而储水槽则连接于第一端与第三端之间。阀门用以控制真空槽与第一端或储水槽与第一端的启闭。 | ||
申请公布号 | CN1959487A | 申请公布日期 | 2007.05.09 |
申请号 | CN200610138287.X | 申请日期 | 2006.11.10 |
申请人 | 友达光电股份有限公司 | 发明人 | 庄爵豪;梁淑斐;王泳麒;曾建春 |
分类号 | G02F1/1333(2006.01) | 主分类号 | G02F1/1333(2006.01) |
代理机构 | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人 | 梁挥;徐金国 |
主权项 | 1、一种真空承载设备,用以承载与固定一基板,并与一真空泵及一去离子水源连接,其特征在于,包含有:一真空承载平台,具有数个通孔;一传输管路,包含有一第一端、一第二端以及一第三端,该第一端连接至该真空承载平台的该通孔,该第二端连接至该真空泵,该第三端连接至该去离子水源;一真空槽,连接于该传输管路的该第一端与该第二端之间;一储水槽,连接于该传输管路的该第一端与该第三端之间;以及至少一阀门,连接于该第一端、该真空槽与该储水槽之间,借以控制该真空槽与该第一端或该储水槽与该第一端的启闭状态。 | ||
地址 | 中国台湾新竹 |