发明名称 真空承载设备
摘要 本发明公开了一种真空承载设备,包含一真空承载平台、一传输管路、一真空槽、一储水槽与至少一阀门。真空承载平台具有通孔,传输管路的第一端连接至通孔,第二端连接至真空泵,第三端连接至去离子水源。真空槽连接于第一端与第二端之间,而储水槽则连接于第一端与第三端之间。阀门用以控制真空槽与第一端或储水槽与第一端的启闭。
申请公布号 CN1959487A 申请公布日期 2007.05.09
申请号 CN200610138287.X 申请日期 2006.11.10
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 庄爵豪;梁淑斐;王泳麒;曾建春
分类号 G02F1/1333(2006.01) 主分类号 G02F1/1333(2006.01)
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人 梁挥;徐金国
主权项 1、一种真空承载设备,用以承载与固定一基板,并与一真空泵及一去离子水源连接,其特征在于,包含有:一真空承载平台,具有数个通孔;一传输管路,包含有一第一端、一第二端以及一第三端,该第一端连接至该真空承载平台的该通孔,该第二端连接至该真空泵,该第三端连接至该去离子水源;一真空槽,连接于该传输管路的该第一端与该第二端之间;一储水槽,连接于该传输管路的该第一端与该第三端之间;以及至少一阀门,连接于该第一端、该真空槽与该储水槽之间,借以控制该真空槽与该第一端或该储水槽与该第一端的启闭状态。
地址 中国台湾新竹