| 发明名称 | 晶片清洗装置及其清洗方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种晶片清洗装置及其清洗方法。所述晶片清洗装置包括：一转盘，用以承载及固定一晶片；一马达，与所述转盘耦接，用以转动所述转盘及所述晶片；一控制单元，电性连接于所述马达，用以控制所述马达以非固定转动方向转动所述转盘及所述晶片；以及一流体喷注器，设置于所述转盘的上方，用以喷注一流体清洗所述晶片的表面。 | ||
| 申请公布号 | CN1958180A | 申请公布日期 | 2007.05.09 |
| 申请号 | CN200510118759.0 | 申请日期 | 2005.10.31 |
| 申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 彭国豪;曾国邦 |
| 分类号 | B08B11/00(2006.01);B08B3/02(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | B08B11/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波;侯宇 |
| 主权项 | 1.一种晶片清洗装置，包括：一转盘，用以承载及固定一晶片；一马达，与所述转盘耦接，用以转动所述转盘及所述晶片；一控制单元，电性连接于所述马达，用以控制所述马达以非固定转动方向转动所述转盘及所述晶片；以及一流体喷注器，设置于所述转盘的上方，用以喷注一流体清洗所述晶片的表面。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹科学工业园区 | ||