发明名称 | 一种高比表面层状铂纳米材料的制备方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种高比表面层状铂纳米材料的制备方法,由下述步骤组成:(1)配置模板,将非离子表面活性剂与氯铂酸溶液混合,得到均匀的溶致液晶层状相;(2)将所述溶致液晶放入电解池进行电化学沉积;(3)收集所得产物,透射电镜观察所得产物呈现有规则的层状结构形貌,层间距为7.0±0.1nm,厚度为2±0.1nm;产物的组成和高比表面积,分别利用能量弥散X射线谱和循环伏安法表征,其比表面积达61.7±0.2m<SUP>2</SUP>/g。本发明的方法具有模板的粘度较低,反应后易于除去,有利于在电沉积过程中传质和产物的生成,所用盐的浓度低,产物比表面积高,更有利于在电极等材料中的应用。 | ||
申请公布号 | CN1314837C | 申请公布日期 | 2007.05.09 |
申请号 | CN200410036182.4 | 申请日期 | 2004.10.29 |
申请人 | 山东大学 | 发明人 | 陈晓;赵继宽;柴永存;焦丽颖;张国栋 |
分类号 | C25D1/00(2006.01) | 主分类号 | C25D1/00(2006.01) |
代理机构 | 济南圣达专利商标事务所 | 代理人 | 郑华清 |
主权项 | 1.一种高比表面层状铂纳米材料的制备方法,由下述步骤组成:(1)配置模板,将质量百分数为30~70wt%的非离子表面活性剂与浓度为10~80mmol/dm3氯铂酸溶液混合,得到均匀的溶致液晶层状相;(2)将上述溶致液晶放入间距为0.5~2mm电解池,在相对于饱和甘汞电极为0.3~-0.2V的电势下进行电化学沉积,沉积时间为480~1200s;(3)用覆有Formvo膜的铜网收集所得产物,并将其反复洗涤至表面上的溶致液晶完全被洗去,然后用透射电镜观察,所得产物呈现有规则的层状结构形貌,层间距为7.0±0.1nm,厚度为2±0.1nm;对于产物的组成和高比表面积,分别利用能量弥散X射线谱和循环伏安法表征,其比表面积达61.7±0.1m2/g。 | ||
地址 | 250061山东省济南市经十路73号 |