发明名称 |
激光功率调整方法及光记录再生装置 |
摘要 |
本发明以用较少的试写次数即可圆滑且适当地设定最佳激光功率为目的。根据作为试写用设定的多种激光功率Pwn、和以各激光功率Pwn进行试写时的反射光强度的调制度m(Pwn),求取Sn=m(Pwn)×Pwn<SUP>2</SUP>。而且,求取在将求得的Sn和Pwn的关系特性进行直线逼近时调制度成为零的激光功率Pwth;根据激光功率Pwth设定最佳激光功率。在此,最佳激光功率可以根据该光盘的目标γ值,通过计算Pw=Pwth×{1+1/(γ+1)}而求得。目标γ值由光盘的ADIP取得。 |
申请公布号 |
CN1315119C |
申请公布日期 |
2007.05.09 |
申请号 |
CN200510004533.8 |
申请日期 |
2005.01.18 |
申请人 |
三洋电机株式会社 |
发明人 |
间宫升;广濑研;中尾贤治 |
分类号 |
G11B7/0045(2006.01);G11B7/125(2006.01) |
主分类号 |
G11B7/0045(2006.01) |
代理机构 |
中科专利商标代理有限责任公司 |
代理人 |
李香兰 |
主权项 |
1、一种激光功率调整方法,其是在试写区域进行试写,以进行激光功率的强度调整的方法,其中具有:从试写时设定的多种激光功率Pwn、和对应于各激光功率Pwn的反射光强度的调制度m(Pwn),对每个激光功率求取Sn=m(Pwn)×Pwn2 的步骤;求取在将Sn和Pwn的关系特性进行线性逼近时调制度成为零的激光功率Pwth的步骤;和根据激光功率Pwth,求取最佳激光功率的步骤,所述最佳激光功率通过采用记录介质的目标γ值、算出Pw=Pwth×{1+1/(γ+1)}而求得。 |
地址 |
日本国大阪府 |