自适应调焦调平传感器系统及应用方法

摘要

本发明公开了一种自适应调焦调平传感器系统及应用方法，其特征在于光斑掩模还具有形成位于曝光狭缝之外的预测光斑的通光孔，利用所成的曝光狭缝外的预测光斑使本发明的自适应调焦调平系统实现对工艺的自适应，对其本身测量点测量数据的可信度进行自我判断，对光强或增益环节进行反馈控制。本发明的有益效果是大大提高了调焦调平系统的可用性及生产效率和成品率，减少了工艺实验的工作量，节约了使用成本，提高了调焦调平的测量性能和工件台的工作性能，并最终也提高了整个光刻机的工作性能，降低了其使用成本和使用难度。

主权项

1.一种自适应调焦调平传感器系统，包括光源模块、照明光学模块、光斑掩模、投影模块、投影物镜、测量对象、探测光学模块、探测器光学模块和光电探测器，光斑掩模具有形成在测量对象水平上投影物镜曝光狭缝内测量光斑的通光孔，从光源模块发出的光经过照明光学模块进行光束整形后照明光斑掩模产生光斑，从光斑掩模出射的光束经过投影模块投射到测量对象上，被测量对象反射后的光束进入探测光学模块，从探测光学模块出射的光束经过探测器光学模块后被光电探测器所探测，光电探测器输出的信号经过信号处理后即得到被测对象的位置形貌信息，其特征在于：所述光斑掩模还具有形成位于曝光狭缝之外的预测光斑的通光孔，其所成预测光斑分布于曝光狭缝的两侧，预测光斑点在垂直于扫描方向的x方向上的分布长度至少能够覆盖测量光斑点在曝光狭缝内覆盖区域长度。