一种春石斛花期调控方法

摘要

本发明涉及一种春石斛花期调控方法。它包括营养控制施肥措施、水分调控措施、温度控制措施、光照控制措施、生长调节剂使用措施，其具体处理方法包括在营养生长阶段、促花芽分化及花期调控阶段、开花阶段的营养控制施肥措施、水分调控措施、温度控制措施、光照控制措施、生长调节剂使用措施。本发明解决了同一株春石斛的假鳞茎不同节位间开花不一致，在冬春季节零星开花；及不同的株间开花有先后，无法同时开花，不能规模化上市的问题。

主权项

1、一种春石斛花期调控方法，它包括营养控制施肥措施、水分调控措施、温度控制措施、光照控制措施、生长调节剂使用措施，其特征在于：(1)、在营养生长阶段：自3月初至8月底每月施2～3次平均肥，每次施肥浓度为1000倍(EC值为2～2.3，PH5.5～6.5)，单盆的施肥量为0.1g/次，肥料的N∶P∶K＝20∶20∶20，水分调控措施为每5天施用一次水，温度与光照控制措施为温度保持在18～28℃，光照的强度保持在5万到8万lux；(2)、促花芽分化及花期调控阶段：在春石斛出现终止叶后，保持8-13℃夜温25～60天；当春石斛花芽从植株的每个叶腋开始膨大，7～10天浇一次水，浇水次数为每月3～4次，每次浇水量为150～200ml；肥料的N∶P∶K＝10∶30∶20，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，浓度为1000倍，含0.1g高磷肥；(3)开花阶段：当花芽伸长到1cm时，进行加温催花，温度为18～25℃，此时减弱光照强度，光照强度为3～5万lux，保持该温度及光照的时间长短为4～6周；同时7～10天浇一次水，浇水次数为每月3～4次，每次浇水量为150～200ml，施肥10天一次，每株施肥150～200ml，浓度为1000倍，施用平均肥的N∶P∶K＝20∶20∶20；在春石斛预计花期前2个月，采用生长调节剂进行灌根处理；从春石斛花芽萌发时起10～15天，采用生长调节剂进行灌根处理。