| 发明名称 | 含良溶剂及不良溶剂的清漆 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种清漆，其中含有：由分子量200～1000的有机化合物或分子量200～50万的低聚物或聚合物构成的基质；以及，含良溶剂及具有比良溶剂至少低20℃的沸点(760mmHg下)的不良溶剂的溶剂，上述基质溶于该溶剂中。以该清漆制成的薄膜，由于几乎不含杂质，故可适用作电子器件用薄膜及其他技术领域的薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1961615A | 申请公布日期 | 2007.05.09 |
| 申请号 | CN200580017389.X | 申请日期 | 2005.04.28 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 加藤拓;吉本卓司;小野豪 |
| 分类号 | H05B33/22(2006.01);H05B33/10(2006.01);H05B33/14(2006.01) | 主分类号 | H05B33/22(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王健 |
| 主权项 | 1.一种清漆，其特征在于，其中含有：由分子量200～1000的有机化合物或分子量200～50万的低聚物或聚合物构成的基质；以及，含良溶剂及具有比良溶剂至少低20℃的沸点(760mmHg下)的不良溶剂的溶剂，上述基质溶于该溶剂中。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||