| 发明名称 | 包括放电发生器的光刻装置和用于清洁光刻装置的元件的方法 | ||
| 摘要 | 用于清洁光刻装置的元件的方法，例如清洁诸如收集反射镜的光学元件的方法，包括提供含有氮的气体；从至少部分气体产生氮基团，由此形成含有基团的气体；以及向所述装置的一个或多个元件提供至少部分含有基团的气体。光刻装置包括辐射源和光学元件，以及布置成产生射频放电的放电发生器。 | ||
| 申请公布号 | CN1959541A | 申请公布日期 | 2007.05.09 |
| 申请号 | CN200610153964.5 | 申请日期 | 2006.09.15 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | T·V·拉克希默瓦;V·Y·巴尼恩;V·V·伊瓦诺夫;K·N·科舍勒夫;J·H·J·莫尔斯;A·S·科瓦勒夫;D·V·洛帕夫 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);H01L21/027(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 肖春京 |
| 主权项 | 1.一种用于清洁光刻装置的元件的方法，包括：提供含有氮的气体；从至少部分气体产生氮基团，由此形成含有基团的气体；向所述装置的一个或多个元件提供至少部分含有基团的气体 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||