碳纳米管场发射体及其制备方法

摘要

本发明涉及一种碳纳米管场发射体及其制备方法，该制备方法包括步骤：提供一碳纳米管阵列，其生长在一基体上，该碳纳米管阵列包括与基体接触的根部及相对远离基体的顶部；提供一阴极基底，其包括基底本体及形成在该基底本体上的粘结剂层；将该碳纳米管阵列的顶部与粘结剂层接触，使碳纳米管阵列与阴极基底形成电接触；固化该粘结剂层，使该碳纳米管阵列与该阴极基底结合牢固；去除该基体以露出该碳纳米管阵列的根部，以获得一碳纳米管场发射体。本发明通过将碳纳米管阵列反粘在阴极基底上，以使碳纳米管阵列的位于同一平面的根部作为碳纳米管场发射体的发射端，其制备工艺简单、成本低，且碳纳米管场发射体具有较佳场发射均匀性。

主权项

1.一种碳纳米管场发射体的制备方法，包括步骤：提供一碳纳米管阵列，其生长在一基体上，该碳纳米管阵列包括一与基体接触的根部及一相对远离基体的顶部；提供一阴极基底，其包括一基底主体及一形成在该基底主体上的粘结剂层；将该碳纳米管阵列的顶部与粘结剂层接触，使碳纳米管阵列与阴极基底形成电接触；固化该粘结剂层，使该碳纳米管阵列与该阴极基底结合牢固；去除基体以露出该碳纳米管阵列的根部，进而获得一碳纳米管场发射体。