| 发明名称 | 记录层保护涂布剂及涂布了该涂布剂的记录介质 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种记录层保护涂布剂，其特征在于，其中含有羧基改性聚乙烯基醇(A)、聚酰胺多胺表卤醇(B)及聚亚乙基亚胺(C)，优选提供一种记录层保护涂布剂，其特征是，羧基改性聚乙烯基醇(A)的皂化度为90～99.5摩尔％，优选其特征是赋予记录介质优良耐水性，提供一种具有高耐水性的记录介质，其特征是把该记录层保护涂布剂在记录层上涂布而形成。 | ||
| 申请公布号 | CN1956851A | 申请公布日期 | 2007.05.02 |
| 申请号 | CN200480043152.4 | 申请日期 | 2004.12.21 |
| 申请人 | 星光PMC株式会社 | 发明人 | 那须健司 |
| 分类号 | B41M5/28(2006.01);B41M5/30(2006.01);C09D129/14(2006.01);C09D171/03(2006.01);C09D177/06(2006.01);C09D123/02(2006.01);C09D5/00(2006.01) | 主分类号 | B41M5/28(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈昕 |
| 主权项 | 1.一种记录层保护涂布剂，其特征在于，含有羧基改性聚乙烯基醇(A)、聚酰胺多胺表卤醇(B)及聚亚乙基亚胺(C)。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||