| 发明名称 | 负氧离子制造装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种在比以往低的温度下发生高浓度的负氧离子的负氧离子制造装置。在本发明的负氧离子制造装置(1)中，设置了选自氧化铈烧结体、氧化铈·氧化铝烧结体、或氧化铈与氧化钙·氧化铝复合氧化物的烧结体中的氧化物烧结体和该氧化物烧结体的加热装置(4)。 | ||
| 申请公布号 | CN1960939A | 申请公布日期 | 2007.05.09 |
| 申请号 | CN200580017658.2 | 申请日期 | 2005.05.31 |
| 申请人 | 株式会社日本氧化;电气化学工业株式会社 | 发明人 | 李全新;鸟本善章;定方正毅 |
| 分类号 | C01B13/02(2006.01) | 主分类号 | C01B13/02(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 熊玉兰;李平英 |
| 主权项 | 1.一种负氧离子制造装置，其特征在于，在负氧离子制造装置中，设置有选自氧化铈烧结体、氧化铈·氧化铝烧结体、或氧化铈与氧化钙·氧化铝复合氧化物的烧结体中的氧化物烧结体和该氧化物烧结体的加热装置。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||