发明名称 |
处理装置、处理方法及载置部件 |
摘要 |
在处理室(12)内的载置部件(21)上,载置被处理体(W)。载置部件(21)具备电阻层(25)。电源(28)通过在设置于处理室(12)外部的感应线圈(27)中流过电流,在感应线圈(27)的周围产生磁场。电阻层(25)通过形成的磁场所产生的感应热被加热,并加热载置于载置部件(21)上的被处理体(W)。 |
申请公布号 |
CN1314834C |
申请公布日期 |
2007.05.09 |
申请号 |
CN03800169.1 |
申请日期 |
2003.04.15 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
河南博 |
分类号 |
C23C16/46(2006.01);H01L21/205(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/46(2006.01) |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
龙淳 |
主权项 |
1.一种处理装置,其特征在于:由:处理室(12),在内部对被处理体(W)实施规定的处理;载置部件(21),配置在所述处理室(12)内,载置所述被处理体(W);感应线圈(27),设置在所述处理室(12)的外部;和电源(28),通过在所述感应线圈(27)中流过电流,在该感应线圈(27)的周围形成磁场;构成,所述载置部件(21)具备绝缘层(24)和电阻层(25),该电阻层(25)通过将导电材料热喷涂在所述绝缘层(24)上来形成,通过形成在所述感应线圈(27)周围的磁场产生的感应热被加热,并加热载置于该载置部件(21)上的所述被处理体(W)。 |
地址 |
日本国东京都港区赤坂五丁目3番6号 |