发明名称 Lithographic apparatus and device manufacturing method
摘要
申请公布号 EP1434097(A3) 申请公布日期 2007.05.09
申请号 EP20030079162 申请日期 2003.12.23
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 BOTMA, HAKO
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址