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发明名称
具多层镀通孔之基板及其多层镀通孔之形成方法
摘要
一种具多层镀通孔之基板,其系在一基板主体之一镀通孔内形成至少一以沉积方式形成之介电层以及一电镀层。该介电层系局部覆盖该基板之线路层,并电性隔离该电镀层与该镀通孔,以节省该基板之镀通孔设置空间,并可达到多层镀通孔之功效。较佳地,该介电层之形成方法系为电泳沉积,以控制该介电层之沉积厚度为均匀且相当薄,无需再钻孔对位,并能提升电性效能与降低串音效应。
申请公布号
TW200733839
申请公布日期
2007.09.01
申请号
TW095106584
申请日期
2006.02.27
申请人
日月光半导体制造股份有限公司
发明人
王建皓
分类号
H05K3/42(2006.01)
主分类号
H05K3/42(2006.01)
代理机构
代理人
张启威
主权项
地址
高雄市楠梓加工出口区经三路26号
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