发明名称 具有可散热之反射镜的发光二极体的制造方法
摘要 本发明是具有可散热之反射镜的发光二极体的制造方法,主要是在不大于8× 10-3Torr的真空环境压力及预定含氧比例的气氛中形成均匀导电的透明导电层,并配合薄化但不完全蚀刻移除基材,及形成奇数层分别使光通过时均产生负折射的折射膜,同时以具有高反射率与高热传导率的材料在最底层之折射膜上形成一反射层,使得折射膜与反射膜共同形成可完全反射向下泄漏之光的反射镜,且此反射镜与薄化后的基材共同构成作为发光二极体的基板之用,藉此,可解决制得之发光二极体的散热问题,并同时提升发光亮度。
申请公布号 TWI287308 申请公布日期 2007.09.21
申请号 TW095103488 申请日期 2006.01.27
申请人 新世纪光电股份有限公司 发明人 锺宽仁;徐海文;徐智魁
分类号 H01L33/00(2006.01) 主分类号 H01L33/00(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项 1.一种具有可散热之反射镜的发光二极体的制造 方法,包含: (a)在一基材上以半导体材料磊晶形成一可以光电 效应产生光的磊晶层单元; (b)在该磊晶层单元上以可供光穿透且可导电的材 料形成一透明导电层; (c)分别形成与该磊晶层单元与该透明导电层相欧 姆接触的二电极; (d)薄化该步骤(c)所制得之半成品的基材; (e)选择至少一种可使光产生负折射的材料,在经过 该步骤(d)所制得的半成品的基材底面,形成奇数层 使光通过时分别均产生负折射的折射膜;及 (f)选择至少一具有高反射率与高热传导率的材料 在该最上层之折射膜上形成一使光通过时可反射 光的反射膜,使该奇数层折射膜与该反射膜共同构 成一可将透过该薄化后之基材射出的光完全反射 的反射镜,制得该具有可散热之反射镜的发光二极 体。 2.依据申请专利范围第1项所述具有可散热之反射 镜的发光二极体的制造方法,其中,该步骤(b)具有 (b1)在不大于8 10-3Torr的真空环境压力,及预定含氧 比例的气氛中形成该透明导电层, (b2)在选自由惰性气体之组合的气氛中,以高温进 行该透明导电层表面晶粒的改质。 3.依据申请专利范围第1项所述具有可散热之反射 镜的发光二极体的制造方法,其中,该步骤(c)是选 自由下列所构成的群组为材料形成该二电极:铬、 铂、金、铝、钛、镍,及此等之组合。 4.依据申请专利范围第3项所述具有可散热之反射 镜的发光二极体的制造方法,其中,该步骤(c)更在 选自钝性气体之组合的气氛中,以100℃~800℃的温 度作用0.5~80分钟,使构成该二电极之金属/合金进 行融合。 5.依据申请专利范围第1项所述具有可散热之反射 镜的发光二极体的制造方法,其中,该每一折射膜 是分别选自由下列所构成的群组为材料形成:氧化 矽、氧化钛、氧化铝、氢化矽(SiNx),及此等之组合 。 6.依据申请专利范围第1项所述具有可散热之反射 镜的发光二极体的制造方法,其中,该每一折射膜 的厚度介于100~10000。 7.依据申请专利范围第1项所述具有可散热之反射 镜的发光二极体的制造方法,其中,该反射膜是选 自由下列所构成的群组为材料形成:金、铝、银、 铑、钛、铟、铜、铂、钯、铬、镍,及此等之组合 。 8.依据申请专利范围第1项所述具有可散热之反射 镜的发光二极体的制造方法,其中,该反射膜的厚 度介于100~10000。 图式简单说明: 图1是一示意图,说明一习知的具有反射镜之发光 二极体; 图2是一流程图,说明本发明一种具有可散热之反 射镜的发光二极体的制造方法的一较佳实施例;及 图3是一示意图,说明以图2之流程制得之发光二极 体。
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