发明名称 | 基板处理装置、化学式氧化物除去(COR)处理模组及基板抬高装置 | ||
摘要 | 本发明之课题提供一种可防止成膜不良之基板处理装置。本发明之解决手段CVD处理装置10之PM11具备反应室23,该反应室23具有容器32、配置于该容器32内之ESC33、及配置于容器32内之晶圆抬高装置80;晶圆抬高装置80,系具有在容器32内配置为包围ESC33的圆环状针支撑器81,和连接于针支撑器81的3支抬高臂83,和活嵌结合于各抬高臂53而被支撑的3支抬高针42;各抬高针42,系连动于针支撑器81之升降而升降。 | ||
申请公布号 | TW200717643 | 申请公布日期 | 2007.05.01 |
申请号 | TW095133872 | 申请日期 | 2006.09.13 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 釜石贵之;小森荣一 |
分类号 | H01L21/306(2006.01) | 主分类号 | H01L21/306(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |