发明名称 基板处理装置、化学式氧化物除去(COR)处理模组及基板抬高装置
摘要 本发明之课题提供一种可防止成膜不良之基板处理装置。本发明之解决手段CVD处理装置10之PM11具备反应室23,该反应室23具有容器32、配置于该容器32内之ESC33、及配置于容器32内之晶圆抬高装置80;晶圆抬高装置80,系具有在容器32内配置为包围ESC33的圆环状针支撑器81,和连接于针支撑器81的3支抬高臂83,和活嵌结合于各抬高臂53而被支撑的3支抬高针42;各抬高针42,系连动于针支撑器81之升降而升降。
申请公布号 TW200717643 申请公布日期 2007.05.01
申请号 TW095133872 申请日期 2006.09.13
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 釜石贵之;小森荣一
分类号 H01L21/306(2006.01) 主分类号 H01L21/306(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本