发明名称 用于半导体制作之曝光机台
摘要 一种用于半导体制作之曝光机台,包括一提供光线之光源、一位于光线路径中以控制光线通过之快门元件、一位于光线路径中以供切换过滤之光线波长之切换式光线过滤元件、及一位于光线路径中以使光线对准曝光标的物之镜头。本发明之曝光机台可选择切换G、H、I线光源等等,以配合光阻材料进行曝光,获得优异之光阻图形。
申请公布号 TW200717599 申请公布日期 2007.05.01
申请号 TW094136155 申请日期 2005.10.17
申请人 日月光半导体制造股份有限公司 发明人 余瑞益
分类号 H01L21/027(2006.01) 主分类号 H01L21/027(2006.01)
代理机构 代理人 许锺迪
主权项
地址 高雄市楠梓加工出口区经三路26号