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发明名称
用于半导体制作之曝光机台
摘要
一种用于半导体制作之曝光机台,包括一提供光线之光源、一位于光线路径中以控制光线通过之快门元件、一位于光线路径中以供切换过滤之光线波长之切换式光线过滤元件、及一位于光线路径中以使光线对准曝光标的物之镜头。本发明之曝光机台可选择切换G、H、I线光源等等,以配合光阻材料进行曝光,获得优异之光阻图形。
申请公布号
TW200717599
申请公布日期
2007.05.01
申请号
TW094136155
申请日期
2005.10.17
申请人
日月光半导体制造股份有限公司
发明人
余瑞益
分类号
H01L21/027(2006.01)
主分类号
H01L21/027(2006.01)
代理机构
代理人
许锺迪
主权项
地址
高雄市楠梓加工出口区经三路26号
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