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发明名称
使用高压釜于超临界氨中成长第三族氮化物晶体之方法
摘要
一种成长高品质、第三族氮化物、大块单晶体之方法。使用具有至少10微米或更大粒度之第三族氮化物多晶体或第三族金属的源材料或营养物及第三族氮化物单晶体的晶种,于高压釜中之超临界氨中成长该第三族氮化物大块晶体。该等第三族氮化物多晶体可在还原气体中在超过600℃下退火之后,自先前氨热法再循环。该高压釜可包括一充满氨之内室,其中加热该高压釜之后,当氨达到超临界状态时氨自内室释放至该高压釜中,使得超临界氨之对流移动源材料且将所移动之源材料沈积于晶种上,但阻止源材料之未溶解粒子移动并沈积于该等晶种上。
申请公布号
TW200716483
申请公布日期
2007.05.01
申请号
TW095124931
申请日期
2006.07.07
申请人
加利福尼亚大学董事会;独立行政法人科学技术振兴机构 JAPAN SCIENCE AND TECHNOLOGY AGENCY 日本
发明人
藤户健史;桥本忠朗;中村修二
分类号
C01G15/00(2006.01)
主分类号
C01G15/00(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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