| 主权项 |
1.一种物件外周面检测装置,其包含: 一输送机构,其用以输送一待测元件至一预定检测 位置; 一影像反射元件,其相对位于该输送机构上方,并 具有一上开口及一下开口,该上开口往下开口贯穿 形成一倒锥反射空间,该倒锥反射空间系由一漏斗 状倒锥面环绕形成;及 一影像撷取单元,其用以进行该待测元件之影像撷 取; 在检测过程中,该影像反射元件之倒锥反射空间与 待测元件相互对位,该倒锥反射空间之漏斗状倒锥 面用以反射该待测元件之影像,使该影像撷取单元 取得该待测元件之外周面影像。 2.依申请专利范围第1项所述之物件外周面检测装 置,其中该影像反射元件及影像撷取单元由下而上 依序固设于一可动式量测座上,该影像反射元件及 影像撷取单元之相对距离固定不变,以提升量测精 确性。 3.依申请专利范围第2项所述之物件外周面检测装 置,其中另包含一基座,该可动式量测座可移动的 结合于该基座上,以供调整该可动式量测座相对于 该输送机构之高度位置。 4.依申请专利范围第1项所述之物件外周面检测装 置,其中该影像反射元件及影像撷取单元由下而上 依序固设于一基座上,仅由该输送机构相对该影像 反射元件及影像撷取单元进行升降动作。 5.依申请专利范围第4项所述之物件外周面检测装 置,其中该输送机构之升降方式系可选自滑块、齿 轮、螺旋、油压之升降方式,以便抬升该待测元件 直至对位于该倒锥反射空间之漏斗状倒锥面。 6.依申请专利范围第1项所述之物件外周面检测装 置,其中该倒锥反射空间之漏斗状倒锥面相对水平 面具有一倾斜角度,该角度介于30至60之间。 7.依申请专利范围第1项所述之物件外周面检测装 置,另包含一光源模组系相对位于该影像反射元件 上方及该影像撷取单元下方。 8.依申请专利范围第7项所述之物件外周面检测装 置,其中该光源模组包含一光源及一半透镜片,该 半透镜片设置于该影像撷取单元反倒锥反射空间 之漏斗状倒锥面之间。 9.依申请专利范围第7项所述之物件外周面检测装 置,其中该半透镜片相对该漏斗状倒锥面及影像撷 取单元之连线形成倾斜,该半透镜片之倾斜角度介 于30至60之间。 10.依申请专利范围第7项所述之物件外周面检测装 置,其中该影像反射元件、光源模组及影像撷取单 元由下而上依序固设于一可动式量测座上,该影像 反射元件、光源模组及影像撷取单元之相对距离 固定不变,以提升量测精确性。 11.依申请专利范围第10项所述之物件外周面检测 装置,其中另包含一基座,该可动式量测座可移动 的结合于该基座上,以供调整该可动式量测座相对 于该输送机构之高度位置。 12.依申请专利范围第7项所述之物件外周面检测装 置,其中该影像反射元件、光源模组及影像撷取单 元由下而上依序固设于一基座上,仅由该输送机构 相对该影像反射元件、光源模组及影像撷取单元 进行升降动作。 13.依申请专利范围第12项所述之物件外周面检测 装置,其中该输送机构之升降方式系可选自滑块、 齿轮、螺旋、油压之升降方式,以便抬升该待测元 件直至对位于该倒锥反射空间之漏斗状倒锥面。 14.依申请专利范围第1项所述之物件外周面检测装 置,其中该影像撷取单元系选自电荷耦合元件型、 互补式氧化金属半导体型之数位影像撷取单元。 15.依申请专利范围第1项所述之物件外周面检测装 置,其中该输送机构系选用履带式输送带、输送转 盘、机械手臂,以输送该待测元件至该检测位置。 图式简单说明: 第1图:本发明第一实施例之物件外周面检测装置 之侧视图。 第2图:本发明第一实施例之物件外周面检测装置 在进行检测作业之侧视图。 第3图:本发明第二实施例之物件外周面检测装置 之侧视图。 第4图:本发明第二实施例之物件外周面检测装置 在进行检测作业之侧视图。 |
