发明名称 |
制膜方法及形成图案方法及使用此等之电子装置的制造方法 |
摘要 |
本发明系以提供由利用反应活性种之化学种,可简单地形成膜之制膜方法,或形成图案方法为目的之一。本发明系提供由至少1个喷嘴吐出化学种或其前驱物,在基体上配置由上述化学种所构成之多层的膜之制膜方法。本发明系提供由至少1个喷嘴吐出化学种或其前驱物,配置由该化学种所构成多层的膜之形成图案方法。另外,本发明系提供使用上述制膜方法或形成图案方法之电子装置的制造方法。 |
申请公布号 |
TW200716262 |
申请公布日期 |
2007.05.01 |
申请号 |
TW095126965 |
申请日期 |
2006.07.24 |
申请人 |
精工爱普生股份有限公司 |
发明人 |
宫泽贵士 |
分类号 |
B05C5/00(2006.01);H01L33/00(2006.01);H01L29/786(2006.01) |
主分类号 |
B05C5/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |