发明名称 |
被覆LixMno2(0<x<1)于导电材料之电解方法PROCESS FOR PRODUCING LIXMNO2 (0<X<1) COATINGS ON CONDUCTING MATERIALS BY ELECTROLYTIC DEPOSITION |
摘要 |
一种以电化学方式来合成LixMnO2(0<x<1)镀层的方法,其系利用含锰离子(Mn+2)与锂离子(Li+)之水溶液,以阴极电解沈积方式形成含锂之氢氧化锰(LixMn(OH)2)层于导电基材上,再经过烧结后形成LixMnO2(0<x<1)镀膜。 |
申请公布号 |
TW200716795 |
申请公布日期 |
2007.05.01 |
申请号 |
TW094136647 |
申请日期 |
2005.10.19 |
申请人 |
颜秀岗 |
发明人 |
颜秀岗 |
分类号 |
C25D9/00(2006.01);C25D21/12(2006.01) |
主分类号 |
C25D9/00(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
台中市南区南和路213号16楼之2 |