发明名称 被覆LixMno2(0<x<1)于导电材料之电解方法PROCESS FOR PRODUCING LIXMNO2 (0<X<1) COATINGS ON CONDUCTING MATERIALS BY ELECTROLYTIC DEPOSITION
摘要 一种以电化学方式来合成LixMnO2(0<x<1)镀层的方法,其系利用含锰离子(Mn+2)与锂离子(Li+)之水溶液,以阴极电解沈积方式形成含锂之氢氧化锰(LixMn(OH)2)层于导电基材上,再经过烧结后形成LixMnO2(0<x<1)镀膜。
申请公布号 TW200716795 申请公布日期 2007.05.01
申请号 TW094136647 申请日期 2005.10.19
申请人 颜秀岗 发明人 颜秀岗
分类号 C25D9/00(2006.01);C25D21/12(2006.01) 主分类号 C25D9/00(2006.01)
代理机构 代理人
主权项
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