| 发明名称 |
光吸收层之低温电浆沉积与快速光学退火的方法 |
| 摘要 |
兹提供一种处理一工作件之方法，其至少包含：将一光吸收材料先驱物气体引入一含有该工作件之处理室中；藉由施加射频电源的方式于一再进入管中形成射频振荡环形电浆流，以于该工作件上沈积一光吸收材料层，其中该再进入管包括一位于该工作件上之制程区；将该工作件暴露于光辐射下，使该光吸收层至少部分地吸收光辐射。 |
| 申请公布号 |
TW200717614 |
申请公布日期 |
2007.05.01 |
| 申请号 |
TW095117368 |
申请日期 |
2006.05.16 |
| 申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
拉马斯瓦米卡提克;塙广二;加洛比亚久;柯林肯尼S COLLINS, KENNETH S.;马凯;巴瑞哈尔维杰;杰宁斯狄恩;梅尤亚伯赫拉希J MAYUR, ABHILASH J.;阿巴雅提亚弥尔;盖叶安卓 |
| 分类号 |
H01L21/205(2006.01);H01L21/324(2006.01);H01L21/02(2006.01);H05H1/24(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/205(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
| 主权项 |
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| 地址 |
美国 |
