发明名称 | 基板处理装置及基板处理方法以及电脑可读取之记忆媒体 | ||
摘要 | 用于洗净、乾燥半导体晶圆等之基板的基板处理装置具备:将基板浸入存积的纯水中处理之液体处理部;设置于液体处理部上方使基板乾燥的乾燥处理部;在液体处理部与乾燥处理部之间搬送基板之基板搬送装置;将由纯水之水蒸气或雾与挥发性有机溶剂之蒸气或雾所构成的混合流体供应予上述乾燥处理部之流体供应机构;以及用于控制上述混合流体之供应的控制部。 | ||
申请公布号 | TW200717632 | 申请公布日期 | 2007.05.01 |
申请号 | TW095122476 | 申请日期 | 2006.06.22 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 广城幸吉;上川裕二;户岛孝之;新藤尚树 |
分类号 | H01L21/302(2006.01);B08B3/00(2006.01);G11B7/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/302(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |