发明名称 电浆反应器中离子密度、离子能量分布及离子解离之独立控制
摘要 本发明系为一种在电浆反应器中处理工件的方法,包括:将来自具有三个各自频率的至少三个RF功率源的RF功率耦合到反应器中的电浆;藉由选择介于至少三个RF功率源中的第一对RF功率源的功率层级之间的比率而设定离子能量分布形态;并且藉由选择介于至少三个RF功率源中的第二对RF功率源的功率层级之间的比率而设定离子解离和离子密度。所述三个频率可以是LF频率、HF频率或VHF频率,其中所述第一对RF功率源相应于LF频率和HF频率,而第二对RF功率源相应于HF频率和VHF频率。另外,所述功率源包含四个RF功率源,其中第一对RF功率源相应于HF频率和LF频率,而第二对RF功率源相应于VHF频率。
申请公布号 TW200717621 申请公布日期 2007.05.01
申请号 TW095136928 申请日期 2006.10.04
申请人 应用材料股份有限公司 发明人 荷伦约翰P HOLLAND, JOHN P.;霍夫曼丹尼尔J HOFFMAN, DANIEL J.
分类号 H01L21/265(2006.01);H01J37/34(2006.01) 主分类号 H01L21/265(2006.01)
代理机构 代理人 蔡坤财;李世章
主权项
地址 美国
您可能感兴趣的专利