发明名称 |
电浆反应器中离子密度、离子能量分布及离子解离之独立控制 |
摘要 |
本发明系为一种在电浆反应器中处理工件的方法,包括:将来自具有三个各自频率的至少三个RF功率源的RF功率耦合到反应器中的电浆;藉由选择介于至少三个RF功率源中的第一对RF功率源的功率层级之间的比率而设定离子能量分布形态;并且藉由选择介于至少三个RF功率源中的第二对RF功率源的功率层级之间的比率而设定离子解离和离子密度。所述三个频率可以是LF频率、HF频率或VHF频率,其中所述第一对RF功率源相应于LF频率和HF频率,而第二对RF功率源相应于HF频率和VHF频率。另外,所述功率源包含四个RF功率源,其中第一对RF功率源相应于HF频率和LF频率,而第二对RF功率源相应于VHF频率。 |
申请公布号 |
TW200717621 |
申请公布日期 |
2007.05.01 |
申请号 |
TW095136928 |
申请日期 |
2006.10.04 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
荷伦约翰P HOLLAND, JOHN P.;霍夫曼丹尼尔J HOFFMAN, DANIEL J. |
分类号 |
H01L21/265(2006.01);H01J37/34(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/265(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
蔡坤财;李世章 |
主权项 |
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地址 |
美国 |