发明名称 光学微影用之高穿透衰减式相位偏移光罩
摘要 本发明系有关于一种光学微影用之高穿透衰减式相位偏移光罩,其主要是采用(Al2O3)/(TiO2)〔氧化铝/二氧化钛〕多层膜当作高穿透衰减式相位偏移光罩之相位移层,利用其在波长193奈米波段下其穿透率19.9%且拥有较低之反射率3.2%,而在波长257奈米波段下具有好的检视穿透率(小于20%),以能具较佳的虚拟影像者。
申请公布号 TWI280466 申请公布日期 2007.05.01
申请号 TW094117339 申请日期 2005.05.27
申请人 国立高雄第一科技大学 发明人 赖富德
分类号 G03F9/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F9/00(2006.01)
代理机构 代理人 陈金铃 台南市安平区建平五街122号
主权项 一种光学微影用之高穿透衰减式相位偏移光罩,其 主要系利用(Al2O3)x/(TiO2)1-x[氧化铝/二氧化钛]四层 膜做为高穿透衰减式相位偏移光罩之相位移层,且 该(Al2O3)x/(TiO2)1-x[氧化铝/二氧化钛]之厚度百分比 率介于79%~85%之间; 藉此,以能于曝光波长193奈米下具有合适的穿透率 和最小的反射率,及于波长257奈米下检视穿透率小 于40%,而具有优异光学性质者。 图式简单说明: 第一图:本发明具相位偏移之(Al2O3)x/(TiO2)1-x超晶 格薄膜于波长193和257奈米下的光学常数关系图 第二图:本发明n2-k2与2nk对于Al2O3厚度百分比的改 变关系图 第三图:本发明具相位偏移之(Al2O3)x/(TiO2)1-x超晶 格薄膜于波长193奈米下之穿透率与反射率及波长 257奈米下之穿透率 第四图:本发明为x=0.8且具相位偏移层之(Al2O3)x/( TiO2)1-x多层膜,其堆叠数波长193奈米之穿透率与反 射率和波长257奈米之反射率关系图 第五图:本发明具相位移层之四层(Al2O3)x/(TiO2)1-x 脱层于波长193奈米之穿透率与反射率,以及其波长 257奈米之穿透率关系图 第六图:本发明光学性质符合最佳化高穿透相位偏 移光罩相位移层之光学需求
地址 高雄市楠梓区卓越路2号
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