| 发明名称 |
Mask substrate and its manufacturing method |
| 摘要 |
A mask substrate comprises a transparent substrate including a reference mark and a light shielding film formed on the transparent substrate. |
| 申请公布号 |
US7211354(B2) |
申请公布日期 |
2007.05.01 |
| 申请号 |
US20030372396 |
申请日期 |
2003.02.25 |
| 申请人 |
DAI NIPPON PRINTING CO., LTD. |
发明人 |
ITOH MASAMITSU |
| 分类号 |
G03F1/08;G03F9/00;G03B27/42;G03F1/00;G03F1/14;G03F1/38;G03F1/60;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F1/08 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
