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发明名称 METHOD OF PROCESSING A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR20070044081(A) 申请公布日期 2007.04.27
申请号 KR20050099967 申请日期 2005.10.24
申请人 SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. 发明人 LEE, YONG SUN;LEE, SEOG MIN;KIM, DAE OK;KIM, KI SEOK;KIM, BONG HYUN
分类号 H01L21/28;H01L21/306 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
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