| 主权项 |
1.一种清洁用皂结构改良，主要系由皂基以及香精构成一皂体，其特征在于：该皂体中设有至少一种变色粒子。2.如申请专利范围第1项所述之清洁用皂结构改良，其中该变色粒子系为感温变色体。3.如申请专利范围第1项所述之清洁用皂结构改良，其中该变色粒子系为氧化变色体。4.如申请专利范围第3项所述之清洁用皂结构改良，其中该氧化变色体系为茶多酚或为多酚氧化酵素。5.一种清洁用皂结构改良，主要系由皂基以及香精构成一皂体，其特征在于：该皂体系具有多个图案区块，其中至少一个图案区块设有至少一种变色粒子。6.如申请专利范围第5项所述之清洁用皂结构改良，其中该变色粒子系为感温变色体。7.如申请专利范围第5项所述之清洁用皂结构改良，其中该变色粒子系为氧化变色体。8.如申请专利范围第5项所述之清洁用皂结构改良，其中该氧化变色体系为茶多酚或为多酚氧化酵素。9.如申请专利范围第5项所述之清洁用皂结构改良，其中该些图案区块系形成于皂体之外表面。10.如申请专利范围第5项所述之清洁用皂结构改良，其中该些图案区块系形成于皂体之剖面。11.如申请专利范围第5项所述之清洁用皂结构改良，其中该些图案区块系为图形或文字。12.如申请专利范围第9或10项所述之清洁用皂结构改良，其中该些图案区块系包括一第一图案区块以及一第二图案区块，第一图案区块包覆于第二图案区块外围。13.如申请专利范围第9或10项所述之清洁用皂结构改良，其中该些图案区块系包括第一、第二以及第三图案区块，第一图案区块包覆于第二、第三图案区块外围。14.如申请专利范围第13项所述之清洁用皂结构改良，其中该第二、第三图案区块中系分别具有不同表现特性之变色粒子。图式简单说明：第一图系为习知清洁用香皂结构剖视图。第二图系为本创作第一实施例之结构剖视图。第三图(A)系为本创作第一实施例之未使用状态示意图。第三图(B)系为本创作第一实施例之使用后状态示意图。第四图系为本创作第二实施例之结构剖视图。第五图系为本创作第三实施例之结构剖视图。第六图(A)系为本创作第二实施例之未使用状态示意图。第六图(B)系为本创作第二实施例之使用后状态示意图。第七图系为本创作第四实施例之结构剖视图。 |
