| 发明名称 |
Verfahren zur Herstellung einer dielektrischen Antifuse-Struktur |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE50112185(D1) |
申请公布日期 |
2007.04.26 |
| 申请号 |
DE2001512185 |
申请日期 |
2001.06.07 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
LEHR, MATTHIAS DR.;TEWS, RENE DR. |
| 分类号 |
H01L23/525;H01L21/3213;H01L21/768;H01L21/8242 |
主分类号 |
H01L23/525 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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