发明名称 利用奈米级粉末之成形方法
摘要
申请公布号 TWI307640 申请公布日期 2009.03.21
申请号 TW091122327 申请日期 2002.09.27
申请人 美梭科技料股份有限公司 MESO PHASE TECHNOLOGIES INC. 台北市中山区建国北路2段127号5楼 发明人 程一麟;林光隆;黄文星;郭卫中
分类号 B01J2/00 (2006.01) 主分类号 B01J2/00 (2006.01)
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项 1.一种利用奈米级粉末之成形方法,包括以下步骤:(a)利用奈米级粉末制作一组合物,该奈米级粉末为金属粉末或陶瓷粉末;(b)将该组合物形成于一元件之设定位置上,该元件为基板、印刷电路板或晶圆;及(c)加热使该组合物熔融固化以成形于该元件上。2.如申请专利范围第1项之成形方法,其中步骤(a)中之该组合物为具有奈米级粉末之悬浮液。3.如申请专利范围第1项之成形方法,其中步骤(a)中之该组合物为具有奈米粉末之膏状液。4.如申请专利范围第1项之成形方法,其中步骤(b)系以喷覆方式将该组合物喷覆于该元件之设定位置上。5.如申请专利范围第1项之成形方法,其中步骤(b)系以网版印刷方式将组合物印刷于该元件之设定位置上。6.如申请专利范围第1项之成形方法,其中步骤(c)中之该组合物熔融固化以形成接点,俾与其他元件接合。7.如申请专利范围第1项之成形方法,其中步骤(c)中之该组合物熔融固化以形成导线于该元件上。8.一种利用奈米级粉末之成形方法,包括以下步骤:(a)利用奈米级金属粉末制作一悬浮液;(b)将该悬浮液形成于一基板之设定位置上;及(c)加热使该悬液熔融固化以成形于该基板上。9.如申请专利范围第8项之成形方法,其中步骤(b)系以喷覆方式将该悬浮液喷覆于该基板之设定位置上。10.如申请专利范围第8项之成形方法,其中步骤(b)系以网版印刷方式将该悬浮液印刷于该基板之设定位置上。图式简单说明:图1为本发明利用奈米级粉末之成形方法之流程图。
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