含有卤素含氧酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物

摘要

本发明通过包含氢卤酸、其盐及其衍生物的微电子清洗组合物提供了用于清洗微电子基板的微电子清洗组合物，尤其是用于微电子基板并且对微电子基板以及镀Al或Al(Cu)的基板和先进的互连技术具有改进的相容性的清洗组合物，所述微电子基板的特征在于二氧化硅、敏感的低－κ或高－κ电介质并镀铜、钨、钽、镍、金、钴、钯、铂、铬、钌、铑、铱、铪、钛、钼、锡和其它金属。

主权项

1.用于从微电子基板上清洗光致抗蚀剂或残余物的方法，该方法包括将基板与清洗组合物接触足够的时间以从基板上清洗光致抗蚀剂或残余物，其中所述清洗组合物包含：(a)氧化剂，其选自卤素含氧酸，所述酸的盐，或其衍生物，其中所述衍生物选自卤化异氰酸酯、二氧化氯、一氧化氯和次氯酸盐-亚磷酸盐复合物，和(b)组分(a)的溶剂，和，任选的如下组分中的一种或多种：(c)不产生铵的碱，(d)酸，(e)金属螯合剂或络合剂，(f)增强清洗性能的添加剂，(g)金属腐蚀抑制剂，(h)不产生铵的氟化物，(i)稳定剂，用于来自卤素含氧酸、其盐或其衍生物的可用卤素，和(j)表面活性剂；附带条件为当氧化剂组分(a)是烷基次氯酸盐时，组分(b)溶剂不是酰胺、砜、环丁烯砜、硒砜或饱和的醇溶剂，而且当氧化剂组分(a)是次氯酸时，清洗组合物还必须含有不产生铵的碱。