| 发明名称 | 膜图案化法、薄膜晶体管制法、薄膜晶体管衬底及其制法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种膜的图案化方法，无需作为蚀刻剂使用特定的气体且严密地控制该添加量，而将膜的加工两端部作成随着从衬底分离而两端部间的距离缩短的锥形，并可使该锥形的角度成为期望角度。本发明的膜的图案化方法，在衬底上形成膜(4、5)，在膜(4、5)的上层将第一覆盖层(10)与其上层的第二覆盖层(11)图案化，使该第二覆盖层(11)设有从该第一覆盖层(10)端部突出的舌部，在膜(4、5)的上层形成第一覆盖层(10)及第二覆盖层(11)图案的状态下，将膜(4、5)蚀刻并图案化。 | ||
| 申请公布号 | CN1953140A | 申请公布日期 | 2007.04.25 |
| 申请号 | CN200610137421.4 | 申请日期 | 2006.10.18 |
| 申请人 | 三菱电机株式会社 | 发明人 | 柴田英次;日野辉重 |
| 分类号 | H01L21/306(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/308(2006.01);H01L21/336(2006.01);H01L29/786(2006.01);H01L29/417(2006.01) | 主分类号 | H01L21/306(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨凯;刘宗杰 |
| 主权项 | 1.一种膜的图案化方法，其特征在于：在衬底上形成膜，在所述膜的上层将第一覆盖层与其上层的第二覆盖层图案化，使该第二覆盖层设有从所述第一覆盖层端部突出的舌部，在所述膜的上层形成所述第一覆盖层以及所述第二覆盖层的图案的状态下，将所述膜蚀刻而进行图案化。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||