| 发明名称 | 预处理光学镀膜材料及其预处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种预处理光学镀膜材料及其预处理方法。该方法包括：(1)选用光学镀膜材料的原料粉体；(2)在温度为700～1400℃，压力为10～40Mpa条件下制备素坯；(3)在高温烧结炉中烧结，在烧结温度900～1800℃条件下恒温烧结2～4小时，制备坯体；(4)、将坯体严格按照镀膜机坩埚的尺寸加工成型；(5)在还原气氛炉中，在温度为1000～1700℃条件下，进行脱气处理2～6小时，即为预处理的光学镀膜材料。所得到TiO<SUB>2</SUB>预处理光学镀膜材料，其相对密度达到99％，氧含量为39.8％，失氧率为6％，按化学计量拟合其分子式为TiO<SUB>1.979</SUB>。预处理光学镀膜材料具有以下特点：1)高度致密化，相对密度达到90％以上，有些接近材料的理论密度；2)对于高折射率氧化物光学镀膜材料，通过本发明的工艺方法进行特定处理失去部分晶格氧。 | ||
| 申请公布号 | CN1952204A | 申请公布日期 | 2007.04.25 |
| 申请号 | CN200510109269.4 | 申请日期 | 2005.10.20 |
| 申请人 | 北京有色金属研究总院 | 发明人 | 王星明;储茂有;段华英;黄松涛;张碧田;邓世斌;张明贤;龚述荣;潘德明 |
| 分类号 | C23C14/08(2006.01);C23C14/02(2006.01) | 主分类号 | C23C14/08(2006.01) |
| 代理机构 | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程凤儒 |
| 主权项 | 1、一种预处理光学镀膜材料，其特征在于：该预处理光学镀膜材料是下述材料中的任意一种，TiO2预处理光学镀膜材料，其相对密度达到99％，氧含量为39.8％，失氧率为6％，按化学计量拟合其分子式为TiO1.979；Ta2O5预处理光学镀膜材料，其相对密度达到96％，氧含量17.84％，失氧率1.5％，按化学计量拟合其分子式为Ta2O4.91；ZnO预处理光学镀膜材料，其相对密度达到98％；Ti2O3预处理光学镀膜材料，其相对密度达到99％，氧含量33.24％，失氧率4.51％，按化学计量拟合其分子式为Ti2O2.988；Ti3O5预处理光学镀膜材料，其相对密度达到99％，氧含量35.53％，失氧率6.8％，按化学计量拟合其分子式为Ti3O4.950。 | ||
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