| 发明名称 | 基板处理方法 | ||
| 摘要 | 一种基板处理方法，包括：对基板上形成的被蚀刻膜进行蚀刻处理形成预定图案；使完成蚀刻处理后残余的物质变性为对于预定液体是可溶的；接着对形成有图案的被蚀刻膜的表面进行甲硅烷基化处理；然后提供预定液体溶解除去经过变性的物质。 | ||
| 申请公布号 | CN1953145A | 申请公布日期 | 2007.04.25 |
| 申请号 | CN200610164648.8 | 申请日期 | 2006.09.29 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 藤井康;户岛孝之;折居武彦 |
| 分类号 | H01L21/3105(2006.01);H01L21/311(2006.01);H01L21/768(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3105(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 孙秀武;吴娟 |
| 主权项 | 1、一种基板处理方法，包括：对基板上形成的被蚀刻膜进行蚀刻处理，从而形成预定图案；使完成了所述蚀刻处理后残余的物质变性为对于预定液体是可溶的；接着，对形成有图案的被蚀刻膜的表面进行甲硅烷基化处理；随后，提供所述预定液体，溶解除去所述经过变性的物质。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||