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发明名称 METHOD FOR FABRICATING METAL LAYER
摘要
申请公布号 KR100712987(B1) 申请公布日期 2007.04.24
申请号 KR20050128303 申请日期 2005.12.22
申请人 HYNIX SEMICONDUCTOR INC. 发明人 KIM, CHOON HWAN;RHO, IL CHEOL
分类号 H01L21/28 主分类号 H01L21/28
代理机构 代理人
主权项
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