| 主权项 |
1.一种液晶显示(LCD)装置,包括: 第一和第二彼此面对之基板; 多个在此等第一和第二基板中之至少一个上面的 柱式间隔件,每一柱式间隔件系包括第一和第二图 案,此等第一和第二图案系彼此相连接,其第二图 案系具有一小于第一图案者之接触表面;以及 一在其第一与第二基板间之液晶层。 2.如申请专利范围第1项之LCD装置,其中之多个柱式 间隔件,系具有相同之高度。 3.如申请专利范围第1项之LCD装置,其中之多个柱式 间隔件,系具有不同之高度。 4.如申请专利范围第3项之LCD装置,其中之多个柱式 间隔件,系包括第一群与第一和第二基板两者均接 触之柱式间隔件,以及第二群与第一和第二基板中 之一分隔的柱式间隔件。 5.如申请专利范围第1项之LCD装置,更包括一在其第 一基板上面之薄膜电晶体(TFT)阵列,和一在其第二 基板之滤色片阵列。 6.如申请专利范围第5项之LCD装置,其中之TFT阵列包 括:多个彼此相交而可界定一像素区域之闸极线和 资料线;多个在其闸极线和资料线之对应相交部分 处的薄膜电晶体;和多个交替形成在其像素区域内 之共用和像素电极;以及其滤色片阵列,系包括一 对应于其TFT阵列之闸极线和资料线和薄膜电晶体 之黑色矩阵、一滤色片层、和一在此滤色片层上 面之外敷层。 7.如申请专利范围第6项之LCD装置,更包括一在其第 一基板之背侧上面的铟锡氧化物(ITO)层。 8.如申请专利范围第6项之LCD装置,其中之多个柱式 间隔件,系形成在其滤色片阵列上面。 9.如申请专利范围第6项之LCD装置,其中之多个柱式 间隔件,系形成在其黑色矩阵层上面。 10.如申请专利范围第5项之LCD装置,其中之TFT阵列 系包括: 多个彼此相交而可界定一像素区域之闸极线和资 料线;多个在其闸极线和资料线之对应相交部分处 的薄膜电晶体;和多个在其对应之像素区域内的像 素电极;以及其滤色片阵列,系包括一对应于其TFT 阵列之闸极线和资料线和薄膜电晶体之黑色矩阵 、一滤色片层、以及一在此滤色片层上面之共用 电极。 11.如申请专利范围第10项之LCD装置,其中之多个柱 式间隔件,系形成在其黑色矩阵层上面。 12.如申请专利范围第1项之LCD装置,更包括一形成 在其第一和第二基板上面之排齐层。 13.如申请专利范围第1项之LCD装置,其中之第一图 案,系具有一为10m~35m x 10m~35m之第一横截 面,以及其第二图案,系具有一为0.1m~10m x 0.1 m~10m之第二横截面。 14.如申请专利范围第1项之LCD装置,其中之多个柱 式间隔件,各系具有一至少2m之高度。 15.如申请专利范围第1项之LCD装置,其中之第一图 案系具有一第一高度,以及其第二图案系具有一短 此第一高度之第二高度。 16.一种液晶显示(LCD)装置,包括: 一具有一TFT阵列之第一基板; 一具有一面对其第一基板之滤色片阵列的第二基 板; 一与其第一和第二基板相接触之第一柱式间隔件; 一在其第二基板上面且与第一基板分开之第二柱 形间隔件;以及 一在其第一与第二基板间之液晶层。 17.如申请专利范围第16项之LCD装置,更包括一在其 第一和第二基板上面之排齐层。 18.一种液晶显示(LCD)装置,包括: 一具有一TFT阵列之第一基板; 一具有一面对其第一基板之滤色片阵列的第二基 板; 一在其第二基板上面之第一柱式间隔件,此第一滚 柱间隔件包括:一具有一第一横截面和第一高度之 第一图案,和一具有一小于此第一图案者之第二横 截面和第二高度的第二图案,此等第一和第二图案 系彼此相连接; 一在其第二基板上面之第二柱形间隔件,其系具有 一对应于第一柱式间隔件之第一图案的第一高度 之高度;以及 一在其第一与第二基板间之液晶层。 19.如申请专利范围第18项之LCD装置,更包括一在其 第一和第二基板上面之排齐层。 20.一种制造液晶显示(LCD)装置之方法,包括: 在一第一基板上面,形成一TFT阵列; 在一第二基板上面,形成一滤色片阵列; 在其第二基板上面,形成多个之柱式间隔件,每一 柱式间隔件,系包括一第一图案和一第二图案,此 等第一图案和第二图案,系彼此相连接,其第二图 案系具有一小于第一图案者之接触表面; 将液晶材料散布至其第一基板上面;以及 使其第一和第二基板彼此相黏合。 21.如申请专利范围第20项之方法,更包括在其第一 和第二基板上面,形成一排齐层。 22.如申请专利范围第20项之方法,其中之多个柱式 间隔件的形成,系包括形成其具有一第一横截面和 一第一高度之第一图案,以及其具有一小于其第一 图案者之第二横截面和第二高度的第二图案。 23.一种制造液晶显示(LCD)装置之方法,包括: 在一第一基板上面,形成一TFT阵列; 在一第二基板上面,形成一滤色片阵列; 在其第二基板上面,形成第一和第二具有不同高度 之柱式间隔件; 在其第一基板上面,散布一液晶材料;以及 使其第一和第二基板彼此相黏合。 24.如申请专利范围第23项之方法,更包括在其第一 和第二基板上面,形成一排齐层。 25.一种制造液晶显示(LCD)装置之方法,包括: 在一第一基板上面,形成一TFT阵列; 在一第二基板上面,形成一滤色片阵列; 在其第二基板上面,形成一第一柱式间隔件,此第 一柱式间隔件,系包括一具有一第一横截面和第一 高度之第一图案,和一具有一小于第一图案者之第 二横截面和第二高度的第二图案,此等第一图案和 第二图案,系彼此相连接; 在其第二基板上面,形成一第二柱式间隔件,使具 有一对应于其第一柱式间隔件之第一图案的第一 高度之高度; 在其第一基板上面,散布一液晶材料;以及 使其第一和第二基板彼此相黏合。 26.如申请专利范围第25项之方法,更包括在其第一 和第二基板上面,形成一排齐层。 图式简单说明: 第1图系一可例示一习知技术式LCD装置之放大透视 图; 第2图系一可例示一依据一液晶注入法来制造此习 知技术式LCD装置之方法的流程图; 第3图系一可例示一依据一液晶散布法来制造此习 知技术式LCD装置之方法的流程图; 第4图系一可示意例示上述具有柱式间隔件之习知 技术式LCD装置的横截面图; 第5A图和第5B图系一些可例示斑点如何在此习知技 术式LCD装置中产生之平面图和横截面图; 第6图系一可例示一依据本发明之第一实施例的LCD 装置之横截面图; 第7A图至第7E图系一些可例示一依据本发明之一实 施例来形成一柱式间隔件的方法之横截面图; 第8A图至第8C图系一些可例示一依据本发明之一实 施例在一绕射曝光法中形成一滚柱间隔件的方法 之横截面图; 第9图系一可例示一依据本发明之第二实施例的LCD 装置之横截面图; 第10图系一可例示一依据本发明之第三实施例的 LCD装置之横截面图; 第11图系一可例示一依据其第三实施例之IPS模式 LCD装置的平面图; 第12图系一沿第11图之线II-II'截成的横截面图; 第13图系一可例示一依据其第三实施例之TN模式LCD 装置的平面图;以及 第14图则系一沿第13图之线III-III'截成的横截面图 。 |
