发明名称 具有灰色化处理面之表面处理铜箔、该表面处理铜箔之制造方法、以及使用该表面处理铜箔之电浆显示器前面板用的电磁波遮蔽导电性网片
摘要 本发明的目的在于提供具有良好的灰色,且能够以通常的铜蚀刻程序加工的表面处理铜箔,及提供以这样的表面处理铜箔所制造的电浆显示器用电磁波遮蔽导电性网片。为达成此目的,采用的铜箔系单面具备灰色化处理面的表面处理铜箔,且以具备在铜箔层的粗面上设有硫酸钴镀层,进而设防锈处理层为特征之灰色化处理面之表面处理铜箔等。此外,该表面处理铜箔之制造,采用在电解铜箔等之粗面上,使用含有硫酸钴(7水和物)之钴电镀液,以特定的电流密度电解,形成防锈处理层,并水洗、乾燥等手法。
申请公布号 TWI280079 申请公布日期 2007.04.21
申请号 TW094106234 申请日期 2005.03.02
申请人 三井金属?业股份有限公司 发明人 口勉
分类号 H05K1/03(2006.01) 主分类号 H05K1/03(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文 台北市大安区信义路4段279号3楼
主权项 1.一种表面处理铜箔,在电解铜箔的粗面上具有灰 色化处理面, 其特征在于: 该灰色化处理面系设于铜箔层的单面之重量厚度 为200mg/m2~350mg/m2之硫酸钴镀层,且其灰色化处理面 之剖面高在200nm以下。 2.如申请专利范围第1项之表面处理铜箔,其中于前 述灰色化处理面具备防锈处理层者。 3.如申请专利范围第2项之表面处理铜箔,其中防锈 处理层系使用锌或者锌合金者。 4.如申请专利范围第2项之表面处理铜箔,具备灰色 化处理面,其中防锈处理层系由使用锌或者锌合金 形成之层,与铬酸盐处理层所构成。 5.如申请专利范围第1项之表面处理铜箔,其中前述 灰色化处理面系Lab表色系之L値在43以下。 6.如申请专利范围第1项之表面处理铜箔,其中前述 灰色化处理面系于电解铜箔之粗面形成该灰色化 处理面者,且光泽度[Gs(60)]在10以下。 7.如申请专利范围第1项之表面处理铜箔,其中前述 灰色化处理面系黑浓度为0.7~1.2。 8.如申请专利范围第1项之表面处理铜箔,其中前述 灰色化处理面系在使透明树脂覆膜密接配置于其 表面时,可视觉确认为黑色者。 9.如申请专利范围第1项之表面处理铜箔,其中在灰 色化处理面设透明树脂覆膜时之黑浓度为1.2以上 。 10.一种表面处理铜箔之制造方法,具备灰色化处理 面之表面处理铜箔之制造方法, 其特征在于具备以下(a)、(b)步骤: (a)在铜箔的粗面,使用含有硫酸钴(7水和物)10g/L~40g /L,pH値4.0以上,液温30℃以下之硫酸钴电镀液的搅 拌浴,以4A/dm2以下之电流密度电解,形成灰色之硫 酸钴镀层;以及 (b)其后,进行水洗、乾燥。 11.一种表面处理铜箔之制造方法,具备灰色化处理 面之表面处理铜箔之制造方法, 其特征在于具备以下(a)、(b)、(c)步骤: (a)在铜箔的粗面,使用含有硫酸钴(7水和物)10g/L~40g /L,pH値4.0以上,液温30℃以下之硫酸钴电镀液的搅 拌浴,以4A/dm2以下之电流密度电解,形成灰色之硫 酸钴镀层; (b)在形成灰色的硫酸钴镀层之铜箔的两面或单面, 形成防锈处理层;以及 (c)其后,进行水洗、乾燥。 12.一种电磁波遮蔽导电性网片,其特征在于:使用 具备申请专利范围第1项所述之灰色化处理面的表 面处理铜箔形成之电浆显示器前面板用的电磁波 遮蔽导电性网片。 13.一种电磁波遮蔽导电性网片,其特征在于:使用 具备申请专利范围第2项所述之灰色化处理面的表 面处理铜箔形成之电浆显示器前面板用的电磁波 遮蔽导电性网片。 14.一种电磁波遮蔽导电性网片,其特征在于:使用 具备申请专利范围第3项所述之灰色化处理面的表 面处理铜箔形成之电浆显示器前面板用的电磁波 遮蔽导电性网片。 15.一种电磁波遮蔽导电性网片,其特征在于:使用 具备申请专利范围第4项所述之灰色化处理面的表 面处理铜箔形成之电浆显示器前面板用的电磁波 遮蔽导电性网片。 16.一种电磁波遮蔽导电性网片,其特征在于:使用 具备申请专利范围第5项所述之灰色化处理面的表 面处理铜箔形成之电浆显示器前面板用的电磁波 遮蔽导电性网片。 17.一种电磁波遮蔽导电性网片,其特征在于:使用 具备申请专利范围第6项所述之灰色化处理面的表 面处理铜箔形成之电浆显示器前面板用的电磁波 遮蔽导电性网片。 18.一种电磁波遮蔽导电性网片,其特征在于:使用 具备申请专利范围第7项所述之灰色化处理面的表 面处理铜箔形成之电浆显示器前面板用的电磁波 遮蔽导电性网片。 19.一种电磁波遮蔽导电性网片,其特征在于:使用 具备申请专利范围第8项所述之灰色化处理面的表 面处理铜箔形成之电浆显示器前面板用的电磁波 遮蔽导电性网片。 20.一种电磁波遮蔽导电性网片,其特征在于:使用 具备申请专利范围第9项所述之灰色化处理面的表 面处理铜箔形成之电浆显示器前面板用的电磁波 遮蔽导电性网片。 图式简单说明: 第1图系概略显示具备灰色化处理面的表面处理铜 箔的剖面层构成之图。 第2图系概略显示具备灰色化处理面的表面处理铜 箔的剖面层构成之图。 第3图系具备灰色化处理面的表面处理铜箔的剖面 层构成之FIB观察影像。 第4图系具备灰色化处理面的表面处理铜箔的剖面 层构成之FIB观察影像。 第5图系具备灰色化处理面的表面处理铜箔的剖面 层构成之FIB观察影像。 第6图系概略显示具备灰色化处理面的表面处理铜 箔之剖面层构成之图。 第7图系概略显示具备灰色化处理面的表面处理铜 箔之剖面层构成之图。 第8图系概略显示具备灰色化处理面的表面处理铜 箔之剖面层构成之图。 第9图系概略显示具备灰色化处理面的表面处理铜 箔之剖面层构成之图。 第10图系粗化处理后之铜箔表面的扫描型电子显 微镜影像。 第11图系以低倍率观察灰色的硫酸钴镀层之扫描 型电子显微镜影像。 第12图系以高倍率观察灰色的硫酸钴镀层之扫描 型电子显微镜影像。 第13图系蚀刻测试图案之扫描型电子显微镜影像 。 第14(a)图至第14(e)图系从前之电浆显示器面板之前 面板的制造流程之概略图。 第15(f)图至第15(j)图系从前之电浆显示器面板之前 面板的制造流程之概略图。 第16(k)图至第16(n)图系从前之电浆显示器面板之前 面板的制造流程之概略图。
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