| 主权项 |
1.一种制造磁碟基板用之转压印具,系就每一预定 之旋转角度形成具有凹凸形伺服图案以提供碟片 之位置资讯的伺服区(servo zone)以及具有用于记录 资料之凹凸形图案的资料区(data zone)于该转压印 具上。 2.如申请专利范围第1项之转压印具,其中该伺服区 包括用于提供时脉信号、代表轨迹上之位址资讯 的位址信号、以及用于侦测该轨迹上之位置的位 置侦测信号之至少其中一者之辨识标记区域。 3.如申请专利范围第2项之转压印具,其中系分别令 该时脉信号系形成为于伺服时脉区域中之辨识标 记、该位址信号系形成为于位址辨识标记区域中 之辨识标记以及该位置侦测信号系形成为于位置 侦测辨识标记区域中之辨识标记。 4.如申请专利范围第1项之转压印具,其中该伺服区 中之伺服图案包括比径向中之轨迹至轨迹距离为 长之纵向图案。 5.如申请专利范围第1项之转压印具,其中该资料区 中之凹凸形图案系具有在轨迹上之连续光点辨识 标记之图案。 6.如申请专利范围第1项之转压印具,该转压印具系 经由包括藉着电子束记录装置将用于曝光之电子 束照射在表面形成有原始之碟片基板(original disk substrate)上以在抗蚀剂层上将该伺服图案及该资料 图案形成为潜像之曝光步骤用于在执行该曝光步 骤之后对该原始之碟片基板进行显影以获得制造 磁碟基板用之原版碟片(master disk)之显影步骤、以 及用于转移该原版碟片之转移步骤所制成者。 7.如申请专利范围第6项之转压印具,其中该原版碟 片具有就每一预定旋转角度形成具有凹凸形伺服 图案以提供碟片之位置资讯的伺服区以及具有用 于记录资料之凹凸形图案于其上之表面上的资料 区。 8.一种制造磁碟基板用之曝光遮罩,系就每一预定 旋转角度形成具有伺服图案以提供碟片之位置资 讯的伺服区以及具有用于记录资料之图案的资料 区于该曝光遮罩中。 9.如申请专利范围第8项之曝光遮罩,其中该伺服区 包括用于提供时脉信号、代表轨迹上之位址资讯 的位址信号、以及用于侦测该轨迹上之位置的位 置侦测信号之至少其中一者之辨识标记区域。 10.如申请专利范围第9项之曝光遮罩,其中系分别 令该时脉信号系形成为于伺服时脉区域中之辨识 标记、该位址信号系形成为于位址辨识标记区域 中之辨识标记以及该位置侦测信号系形成为于位 置侦测辨识标记区域中之辨识标记。 11.如申请专利范围第8项之曝光遮罩,其中该伺服 区中之伺服图案包括比径向中之轨迹至轨迹距离 为长之纵向图案。 12.如申请专利范围第8项之曝光遮罩,其中该资料 区中之图案系具有在轨迹上之连续光点辨识标记 之图案。 13.如申请专利范围第8项之曝光遮罩,该曝光遮罩 系经由包括藉着电子束记录装置将用于曝光之电 子束照射在表面形成有原始之磁碟基板上以在抗 蚀剂层上将该伺服图案及该资料图案形成为潜像 之曝光步骤、用于在执行该曝光步骤之后对该原 始之磁碟基板进行显影以获得制造磁碟基板用之 原版碟片之显影步骤、用于蚀刻该原版碟片之蚀 刻步骤、以及用于在执行该蚀刻步骤之后从该原 版碟片剥除该抗蚀剂层之抗蚀剂剥除步骤所制成 者。 14.如申请专利范围第8项之曝光遮罩,该曝光遮罩 系经由包括藉着电子束记录装置将用于曝光之电 子束照射在表面形成有原始之磁碟基板上以在抗 蚀剂层上将该伺服图案及该资料图案形成为潜像 之曝光步骤、用于在执行该曝光步骤之后对该原 始之磁碟基板进行显影以获得制造磁碟基板用之 原版碟片之显影步骤、用于蚀刻该原版碟片之蚀 刻步骤、用于在该原版碟片之凹入区域形成金属 层之金属层形成步骤、用于在该原版碟片之金属 层上黏着地形成透光板之透光板形成步骤、以及 用于在执行该蚀刻步骤之后除了该透光板及该金 属层以外一并移除该抗蚀剂层以及该原版碟片之 基板移除步骤所制成。 15.如申请专利范围第13或第14项之曝光遮罩,其中 该原版碟片具有就每一预定旋转角度形成具有凹 凸形伺服图案以提供碟片之位置资讯的伺服区以 及具有用于记录资料之凹凸形图案于其上之表面 的资料区。 图式简单说明: 第1图系显示重复有伺服区及资料区之结构的磁碟 之示意图; 第2图系显示根据本发明之电子束记录装置之示意 图; 第3图系显示操作偏转控制器之流程图; 第4图系显示用于每一伺服区及资料区之图案之示 意图; 第5图系显示形成用于第4图中所示的伺服区及资 料区之图案的方法之示意图; 第6图系显示用于该伺服区及资料区之不同图案之 示意图; 第7图系显示形成用于第6图中所示的伺服区及资 料区之图案的方法之示意图; 第8图系显示根据本发明之电子束记录装置之示意 图; 第9图系显示的用于第8图中所示之装置的孔口板 中之每一孔口的形状之示意图; 第10图系显示操作用于第8图中所示装置的电子束 调变器之流程图; 第11图系显示当使用第8图中所示之装置时形成用 于第4图中所示的伺服区及资料区之图案的方法之 示意图; 第12图系显示当使用第8图中所示之装置时形成用 于第6图中所示之伺服区及资料区之图案的方法之 示意图; 第13图系显示根据本发明之电子束记录装置之示 意图; 第14图系显示操作用于第13图中所示装置之偏转控 制器的流程图; 第15图系显示制造转压印具之制程之示意图; 第16图系显示制造基板之制程之示意图; 第17图系显示制造曝光遮罩之制程之示意图;以及 第18图系显示制造曝光遮罩之另一制程之示意图 。 |
